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聚硅氧烷制备高比表面积微介孔炭材料

段力群 , 马青松 , 陈朝辉

新型炭材料 doi:10.1016/S1872-5805(13)60078-5

通过对聚甲基(苯基)硅树脂(SR249)在1250~1350℃、真空气氛下裂解以及氢氟酸酸洗处理制备得到具有高比表面积的纳米多孔炭材料.采用X-ray衍射光谱、拉曼光谱、元素分析、透射电镜及氮气吸附法对不同温度所制样品进行元素组成及结构研究.裂解产物中的SiO2相作为一种天然模板经腐蚀处理除去.裂解温度和酸洗处理对多孔炭材料的成分和结构变化影响较大.HF酸处理前,裂解产物的比表面积小于55 m2/g;而酸洗后产物比表面积和总孔容量显著增加,而最高值是裂解温度为1300℃时获得,分别为1148 m2/g、0.608cm3/g.经酸洗处理得到的多孔炭,孔径分布均相对较窄,在1~4nm.透射电镜结果显示炭材料中的自由碳相和少量的SiC纳米晶及SiOC陶瓷彼此相互包裹.

关键词: 聚硅氧烷 , 纳米多孔炭 , 孔结构 , 裂解 , 腐蚀处理

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