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聚乳酸表面Ⅰ型胶原纳米图案化的过程和机理

梁志红 , 周长忍 , 田冶 , 尹平河 , 曾戎

高分子材料科学与工程

采用原子力显微镜(AFM)研究了聚乳酸(PLIA)表面Ⅰ型胶原纳米图案化的过程.发现吸附层的形态变化与干燥条件及PLLA表面的疏水性有关.经氮气快速吹干形成的吸附层较为致密;而保持较高湿度并维持较长水膜浸润时间,由于去湿作用的影响,形成纤维网状纳米图案化结构.此结构受浸润干燥时间、胶原浓度、基底疏水性等因素的影响,随浸润干燥时间延长,致密的胶原膜破裂,逐渐形成纳米图案化结构,胶原浓度由0.01 mg/mL增加到1 mg/mL均产生类似现象,且网状结构趋于紧密,PLIA分子量不同,胶原吸附层形成不同的结构形态,显示PLLA分子量对胶原的结构具有调控作用.

关键词: 聚乳酸 , 胶原 , 原子力显微镜 , 去湿作用 , 纳米图案化

硅表面纳米图案化制作技术的研究进展

陈长春 , 余本海 , 刘江锋 , 王林

材料导报

Si材料表面形成纳米化图案是制作新型硅基纳米电子器件、光电子器件等的基础和前提.根据不同需要,在纳米图案化Si衬底表面淀积不同功能纳米材料则能将成熟Si平面工艺技术的优势与纳米材料的新功能优势结合起来而制作出性能优良的Si基纳电子和光电子器件.介绍了具有纳米图案化表面Si材料在晶格失配较大Ⅲ-Ⅴ族材料外延制备上的应用,综述了各种Si衬底材料表面纳米图案化制作技术.

关键词: 硅材料 , 制备技术 , 纳米图案化

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