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钽片的化学抛光

郑欣 , 熊全明 , 袁宝明

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2000.z1.026

研究了钽片化学抛光质量的影响因素,并给出了钽片溶解速度与化学抛光液中酸浓度的关系曲线.分析认为钽片产生自钝化必须满足:还原平衡电位远高于维钝电位,微电池的阴极极化电流密度大于致钝电流密度.试验结果表明,抛光温度为40～45℃时,抛光钽片表面形成致密的钝化膜,经轧制后钽片表面达到了镜面光泽.

关键词: 化学抛光 , 表面粗糙度 , 纯钽板