王乐
,
刘力宇
,
张浩康
,
樊路嘉
,
张鲁川
,
杨勇
,
黄瑞坤
,
周昕杰
,
李栋良
,
张平
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.04.009
在液晶显示器的制造过程中,光刻是极为重要的制造工艺过程之一.将厚的独立的负胶膜或者将光刻胶涂敷在二氧化硅衬底上以后,可以测量其膜厚,因为光刻胶膜厚决定其光刻工艺的工艺条件.能够快速地测量光刻胶的膜厚,是液晶显示器制造过程的先决性工作的一部分.文章提出了测量上述光刻胶膜厚的新方法,即利用紫外可见吸收光谱法中的Beer-Lambert定律来确定膜厚.在我们的研究中,采用acrylic负胶作为基质(resin),它分别具有50 μm和100μm的膜厚.在350 nm时,50 μm的薄膜的最大吸收为0.728,而100μm的最大吸收为1.468 5.而在正胶的研究中,采用novolac作为基质(resin).它的膜厚通常是1～5 μm.在紫外可见吸收光谱测膜厚的实验中,当重氮荼醌的吸收波长为403.8 nm时,5.93μm厚的薄膜的最大吸收为1.757 4,其膜厚是由扫描电镜测得的.而另一个正胶薄膜在403.8 nm的最大吸收为0.982 3,其薄膜厚度计算得到为3.31 μm.利用这些数据,我们得到了这两种光刻胶薄膜的紫外可见吸收光强与其膜厚关系的两个校准曲线.
关键词:
紫外可见吸收光谱
,
Beer-Lambert's Law
,
光刻胶薄膜厚度
,
吸收
蔡怀鸿
,
杨培慧
,
蔡继业
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2007.04.011
在体积分数为20%乙醇的Britton-Robinson缓冲溶液(pH=7.4)中,利用循环伏安法和紫外可见吸收光谱法研究了青蒿素与DNA的相互作用.电化学研究表明,DNA的存在能导致青蒿素在银电极上-0.672 V处的还原峰电流下降,峰电位正移.通过对比双链DNA(dsDNA)和单链(ssDNA)与青蒿素作用,得出青蒿素可嵌插到DNA分子中,形成非电活性的复合物.电化学方法可计算出DNA与青蒿素的结合比为1:4,结合常数为3.6×104.电极过程的电化学参数表明,DNA作用前后,α、β值变化不明显,进一步证实了该复合物是非电活性;Ks值变小,表明二者作用后受扩散控制.紫外可见吸收光谱法研究表明,青蒿素对DNA分子发生嵌插作用.通过光谱滴定法可计算二者的结合比和结合常数,同样获得1个DNA结合4个青蒿素分子,结合常数为4.0×104,与电化学方法测定结果相吻合.实验数据显示,青蒿素进入细胞内有可能与细胞核中DNA结合,诱导细胞凋亡.
关键词:
青蒿素
,
DNA
,
循环伏安法
,
紫外可见吸收光谱
王梅
,
侯林荣
,
高作宁
,
杨天林
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2008.10.014
运用循环伏安法(CV)和紫外可见光谱法(UV)研究了N,N-(2-羟基-1-萘酚醛)-2,6-二亚胺吡啶合Co(Ⅱ)配合物([Co(BHNP)]2+)及其与DNA相互作用. 结果表明,随DNA浓度增大,配合物的氧化峰电位Ep正移,氧化峰电流Ip降低;最大吸收波长红移,吸光度值降低. 结果表明,配合物与DNA发生较强的相互作用. 采用电化学方法得到配合物与DNA形成结合物的结合位点m=0.966,结合常数β=3.05×104 L/mol. 进一步运用紫外可见光谱法计算得出的值与电化学法所得结果基本相吻合. 同时利用DNA与配合物作用形成结合物导致Ip降低,且峰电流降低值在2.0×10-5 ~1.0×10-3 mol/L范围内与DNA浓度呈线性关系,其中线性方程为ΔIp(μA)=5.516 1×103cDNA(mol/L)+0.253 1,R=0.996 0. 是一种简单、快速的DNA电化学测定方法. 对模拟样品进行测定,结果满意.
关键词:
N
,
N-(羟基萘酚醛)二亚胺吡啶合Co(Ⅱ)配合物
,
DNA
,
电化学
,
紫外可见吸收光谱
