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辅助气体CH4和Ar对IBED制备碳膜性能的影响

李璞 , 关凯书 , 朱晓东 , 周建新

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2006.04.008

采用离子束辅助沉积技术(IBED)制备了一系列碳膜,重点分析辅助气体CH4、Ar对碳膜组成相、电阻率、厚度和硬度的影响.结果表明:采用CH4辅助轰击制得的薄膜厚度高于采用Ar辅助轰击的薄膜厚度;采用Ar辅助轰击的薄膜在硬度、结合强度方面要优于CH4辅助轰击的薄膜;相对于类金钢石薄膜,所制备的碳膜更接近于类石墨膜.

关键词: 离子束辅助 , 增强沉积 , 碳膜 , 类石墨膜 , 结合强度