李新
,
唐祯安
,
徐军
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2004.06.004
采用等离子体源离子注入和电子回旋共振-微波等离子体辅助化学气相沉积技术相结合的方法在Si衬底上制备出了性能良好的类金刚石膜.通过共聚焦Raman光谱验证了薄膜的类金刚石特性,用原子力显微镜、微摩擦计和扫描电镜等对薄膜的表面形貌、摩擦系数和耐磨损性能进行了表征和测量.结果表明,用离子注入法制备过渡层大大提高了DLC膜与衬底的结合强度,薄膜的表面比较光滑,粗糙度大约为0.198 nm,具有较低的摩擦系数(0.1～0.15),具有较好的耐磨损性能.
关键词:
无机非金属材料
,
类金刚石膜
,
等离子体源离子注入
,
等离子体辅助化学气相沉积
,
微电子机械系统
