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TiA1双层辉光离子渗Cr的工艺研究

郑传林 , 谢锡善 , 董建新 , 徐重 , 贺志勇

宇航材料工艺 doi:10.3969/j.issn.1007-2330.2002.02.013

利用双层辉光离子渗金属技术(DGPSAT)对 TiAl金属间化合物进行渗Cr处理.研究了主要工艺参数对渗层表面合金含量CA和渗层厚度δ这两个目标函数的影响.结果表明,表面合金含量CA和渗层厚度δ随源极电压Vs、有效功率密度比κ的增加而增加;随阴极电压Vc的增加而减少.气压存在一个峰值,太高或太低都不利.工艺参数的最佳值:源极电压Vs为1 200 V~1 300 V,阴极电压为200 V~300 V,有效功率密度比κ为4~5,气压为25 Pa~30 Pa.

关键词: TiAl金属间化合物 , 辉光放电 , 离子渗Cr , 工艺参数

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