朱慧群
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丁瑞钦
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姚若河
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吴桐庆
材料导报
采用射频磁控溅射法在抛光硅片上沉积了一系列ZnO薄膜样品.通过对薄膜样品X射线衍射谱的分析、原子力显微图的观察、吸收光谱和荧光光谱的研究,发现Si衬底的离子束表面氮化对ZnO薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性质有重要影响.在衬底温度为200℃、高纯氩氧比例为3:1、压强为1.5Pa的条件下,在经离子束表面氮化预处理的Si衬底上溅射沉积的ZnO薄膜,经450℃真空退火,成为高(0002)晶面取向的ZnO薄膜,并具有良好的光学性质.
关键词:
射频磁控溅射
,
ZnO薄膜
,
离子束轰击
,
衬底表面氮化
蔡冬清
,
吴正岩
,
吴林
,
吴跃进
,
朱剑豪
,
余增亮
应用化学
doi:10.3724/SP.J.1095.2010.90675
采用低能量离子束对碳纳米管进行轰击. 扫描电子显微镜测试表明,离子束轰击可以方便地去除碳纳米管中的杂质,拉曼光谱结果显示离子束轰击没有对碳纳米管造成明显损伤. 以尿素作为杂质添加到碳纳米管中,经离子束轰击后发现尿素消失,说明离子束对杂质的去除机制为其溅射效应.
关键词:
离子束轰击
,
杂质去除
,
碳纳米管
