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束流密度对Ge/Si量子点溅射生长的影响

杨杰 , 王茺 , 陶东平 , 杨宇

功能材料

采用离子束溅射技术在Si基底上自组织生长了一系列Ge量子点样品,研究了束流密度对Ge/Si量子点的尺寸分布和形貌演变的影响。原子力显微镜测试结果表明,随着束流密度的增加,量子点的面密度持续增大,其尺寸不断减小,量子点的形貌由圆顶形转变为过渡圆顶形。计算直径标准偏差的结果表明,当束流密度为0.86mA/cm2时,量子点的尺寸均匀性最佳。束流密度与沉积速率成正比,影响着表面吸附原子与其它原子相遇而形成晶核的能力。

关键词: 离子束溅射沉积 , Ge/Si量子点 , 束流密度 , 原子力显微镜

离子束溅射沉积Fe/Si多层膜法合成β-FeSi2薄膜的研究

张娟 , 沈鸿烈 , 鲁林峰 , 唐正霞 , 江丰 , 李斌斌 , 刘恋慈 , 沈洲

功能材料

采用离子束溅射沉积Fe/Si多层膜的方法在石英衬底上制备了β-FeSi2薄膜,研究了不同厚度比的Fe/Si多层膜对β-FeSi2薄膜的结构性能、形貌及光学性能的影响.结果表明,厚度比为Fe(2nm)/Si(7.4nm)的多层膜在退火后完全生成了β-FeSi2相,表面致密均匀,其光学带隙为0.84eV,能量为1.0eV光子的吸收系数>105cm-1.

关键词: β-FeSi2 , 离子束溅射沉积 , Fe/Si多层膜 , 石英衬底

Ti6Al4V合金上类金刚石膜的摩擦学性能及腐蚀行为

刘建立 , 王智 , 张玉娟 , 张平余

稀有金属材料与工程

采用离子束沉积技术在医用Ti6Al4v合金表面制备类金刚石薄膜(DLC),利用原子力显微镜、Raman光谱、X射线光电子能谱(XPS)及UMT.2摩擦磨损试验机对薄膜的形貌、结构、摩擦学性能进行表征.采用动电位极化对涂层前后基底的耐腐蚀性能进行测试.结果表明:制备薄膜为类金刚石碳结构,基底偏压对薄膜形貌、结构有较大影响;偏压为-100 V时制备的薄膜表面粗糙度低(6.5mm),sp3/sp2比值高,摩擦学性能优异;经DLC膜保护的合金基底耐腐蚀性能获得明显改善.

关键词: 离子束溅射沉积 , Ti6Al4V合金 , DLC膜 , 摩擦学性能 , 腐蚀行为

ZnS薄膜的溅射沉积及其XPS研究

周咏东 , 方家熊 , 李言谨 , 龚海梅 , 汤定元

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2000.06.031

用Ar+束溅射沉积技术在HgCdTe表面实现了ZnS的低温沉积.用 X射线光电子能谱(XPS)对上述ZnS薄膜以及热蒸发ZnS薄膜中的Zn、S元素的化学环境进行了对比实验研究.实验表明:离子束溅射沉积ZnS薄膜具有很好的组份均匀性,未探测到元素Zn、S的沉积.

关键词: ZnS , 离子束溅射沉积 , XPS , HgCdTe , 表面抗反射膜

Si(111)衬底上离子束溅射沉积法生长β-FeSi2薄膜的研究

李强 , 王海燕

功能材料

采用离子束溅射Fe靶的方法在500~800℃的Si(111)衬底上制备出不同种类的铁硅化合物.当衬底温度为700℃时得到厚度为500nm的单相的β-FeSi2薄膜,高分辨透射电镜证实该β-FeSi2薄膜为局部外延,薄膜和Si衬底之间界面明显,没有中间层.

关键词: β-FeSi2薄膜 , 离子束溅射沉积 , 反应沉积外延

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