王海成
,
杜中美
,
王立锦
,
于广华
,
朱逢吾
功能材料
采用化学镀法制备了Co-P磁记录薄膜.当薄膜厚度为0.3μm时,矫顽力可达4.54×104A/m,剩余磁化强度为0.068T.X射线衍射分析表明,当Co-P薄膜较薄时,薄膜结构中无明显择优取向,晶粒较小,此时矫顽力较高;当厚度增加至3～4μm以上时,结构中择优取向明显,晶粒较大,此时薄膜的矫顽力较低.将其应用于磁旋转编码器的磁鼓记录介质,制成直径φ40mm的磁鼓,当原始充磁磁极对数为512时,脉冲计数完整,输出信号强,波形稳定.
关键词:
化学镀
,
磁鼓
,
Co-P薄膜
,
磁记录介质
秦高梧
,
及川胜成
材料与冶金学报
doi:10.3969/j.issn.1671-6620.2005.02.024
目前Co-Cr基合金硬盘磁记录介质因其磁诱发相分离的富Co铁磁相,与富Cr非铁磁相组成的特殊组织形态和较高的磁晶各向异性能,使得实际的磁记录面密度已达到了水平记录模式的理论极限(～100 Gbit/in2),而将来超高密度磁记录技术(几百Gbi/in2～1 Tbit/in2)要求介质具有孤立的磁晶粒和更高的磁晶各向异性能.我们的实验结果表明,Co-Mo(W)合金具有比Co-Cr合金更高的磁晶各向异性能,特别是热力学计算预测了这两个系统发生磁诱发相分离的可能性,其组织能满足未来超高密度磁记录的要求.对Co-Mo(W)合金薄膜的TEM-EDX分析支持了这种理论计算结果.不过这两个体系相分离程度的不充分限制了它们的直接应用.本文对这种不充分相分离的成因进行了详细讨论,并提出了对其改善的途径.
关键词:
磁记录介质
,
磁诱发相分离
,
Co-Cr Co-Mo
,
Co-W
宣天鹏
,
郑晓华
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2001.01.002
化学镀Co-Ni-P薄膜镀态下为非晶态结构，表面较为平整；经300℃×1h热处理，发生了晶化转变，表面由“圆锥峰“所构成；随加热温度的提高，镀层析出了Co2P相，并发生了由密排六方结构的α-Co向面心立方结构的β-Co的同素异构转变。非晶态Co-Ni-P薄膜的矫顽力较低，矩形比较高；薄膜向晶态转变时，矫顽力和矩形比皆呈上升趋势；500℃×1h热处理，薄膜由α-Co和Co2P相构成时，且在晶界上偏聚较多磷的影响下，矫顽力和矩形比的值达到最高；温度继续升高，晶粒长大，第二相粗化时，薄膜的矫顽力和矩形比都减小。化学镀Co-Ni-P薄膜具有优秀的高密度垂直记录特性。
关键词:
化学镀钴
,
Co-Ni-P合金
,
磁记录介质
,
组织结构
李佐宜
,
游龙
,
杨晓非
,
林更琪
稀有金属材料与工程
采用CoCrPtNb四元合金作磁记录介质,并采用多层膜结构(CoCrPt)100-xNbx/CrTi/C/GIass制备玻璃盘基硬盘.实验结果表明:采用适宜厚度的籽晶层与合适组分的底层和磁性层的多层膜结构,即使在室温下溅射,此种薄膜磁记录介质也可得到高达260 kA/m的矫顽力;在550℃高温下,经过30 min真空退火后,其矫顽力有较大幅度提高,并在Nb含量为2.4%(原子分数)时达到极大值386 kA/m,适用于高密度磁记录.同时,也详细分析了磁性层和底层组分、籽晶层厚度以及真空退火对磁记录介质磁性能和微结构的影响.
关键词:
玻璃盘基
,
磁记录介质
,
矫顽力
,
CoCrPtNb
张俊敏
,
闻明
,
李艳琼
,
毕珺
,
管伟明
贵金属
doi:10.3969/j.issn.1004-0676.2011.01.006
用真空熔炼法制备得到的CoCrPt合金铸锭,采用不同淬火条件优化其相组成,采用1000℃保温50 min后热轧的工艺对其进行热加工;利用X射线衍射仪(XRD)、金相和扫描电子显微镜(SEM)分析合金的结构和形貌.结果表明:所制备的CoCrPt合金铸锭由高温相面心立方固溶体(αCo)和低温相密排六方固溶体(εCo)及氧化铬黑色颗粒3种物相组成,Cr和Pt在钴合金中主要以固溶的形式存在.淬火后的Co基合金中hcp相的体积比例明显提高.热轧后的合金也是由αaCo固溶体、εCo固溶体和氧化铬黑色颗粒3种物相组成.
关键词:
金属材料
,
磁记录介质
,
Co基合金
,
真空熔炼
张恩
,
冯春
,
李宁
,
王海成
,
滕蛟
,
王立锦
,
于广华
功能材料
利用磁控溅射方法,在加热的单晶MgO(100)基片上制备了以AlN为母体的FePt薄膜,再经过真空热处理后,得到了具有垂直磁各向异性且无磁交换耦合作用的FePt薄膜;同时,研究了掺杂AlN含量、薄膜的厚度及退火温度对薄膜的磁性能的影响.结果表明,非磁性相AlN的添加能够降低磁交换耦合作用,但同时也会破坏薄膜的垂直磁各向异性.降低薄膜厚度,有利于改善薄膜的垂直磁各向异性,FePt-AlN薄膜的厚度为6nm且掺杂AlN含量达到40%时,经650℃热处理1h后薄膜具有良好垂直磁各向异性、适中矫顽力且无磁交换耦合作用.
关键词:
磁记录介质
,
垂直磁各向异性
,
磁交换耦合作用
杨晓非
,
游龙
,
李震
,
林更琪
,
李佐宜
功能材料
采用CoCrPtNb四元合金作磁记录介质,并使用多层膜结构C/(CoCrPt)100-xNbx/CrTi/C/Glass Substrate制备硬盘磁记录介质.实验结果表明:此种薄膜记录介质,即使在室温下溅射,也可得到高达240kA/m的矫顽力;此类薄膜在550℃高温下,经过30min退火后,其矫顽力有较大幅度提高,并在Nb含量为2.4%(原子分数)时达到极大值360kA/m此时剩磁比S=0.90,矫顽力矩形比S*=0.92,从而制成了适于高密度或超高密度磁记录使用的薄膜介质.并详细分析了在室温条件下溅射,此种介质矫顽力与Nb含量变化的关系;并对退火后介质矫顽力与Nb含量变化的关系也进行了讨论.
关键词:
玻璃盘基
,
磁记录介质
,
射频磁控溅射
许佳玲
,
孙会元
,
杨素娟
,
封顺珍
,
苏振访
,
胡骏
,
于红云
稀有金属材料与工程
在室温下,应用对靶直流磁控溅射设备在普通玻璃基片上制备了FePt(30nm)/Ti(tnm)颗粒膜样品,随后,在真空中进行了原位退火.详细研究了Ti衬底层对FePt颗粒膜的微结构和磁特性的影响.X射线衍射图谱表明样品形成了较有序的L10织构,Ti和FePt形成了三元FePtTi合金.当Ti层厚度t=5 nm、退火温度Ta=500℃时,样品具有高度有序的L10织构、小的颗粒尺寸和优异的磁特性.矫顽力超过了6.7 kOe,饱和磁化强度为620emu/cc.并且具有较小的开关场分布.结果表明FePt/Ti颗粒膜系统可作为超高密度磁记录介质的候选者.
关键词:
FePt/Ti颗粒膜
,
对靶磁控溅射系统
,
磁记录介质
许佳玲
,
孙会元
,
杨素娟
,
封顺珍
,
苏振访
,
胡骏
,
于红云
稀有金属材料与工程
在室温下,应用对靶直流磁控溅射设备在普通玻璃基片上制备了FePt(30nm)/Ti(tnm)颗粒膜样品,随后,在真空中进行了原位退火.详细研究了Ti衬底层对FePt颗粒膜的微结构和磁特性的影响.X射线衍射图谱表明样品形成了较有序的L10织构,Ti和FePt形成了三元FePtTi合金.当Ti层厚度t=5 nm、退火温度Ta=500℃时,样品具有高度有序的L10织构、小的颗粒尺寸和优异的磁特性.矫顽力超过了6.7 kOe,饱和磁化强度为620emu/cc.并且具有较小的开关场分布.结果表明FePt/Ti颗粒膜系统可作为超高密度磁记录介质的候选者.
关键词:
FePt/Ti颗粒膜
,
对靶磁控溅射系统
,
磁记录介质
