周小军
,
易健宏
,
倪成林
,
徐成竹
,
黄峰
,
张学东
,
徐英
航空材料学报
doi:10.3969/j.issn.1005-5053.2014.1.007
采用中频脉冲磁控溅射双靶交替沉积,制备了调制周期为4nm,12nm和88nm的VC/Ni纳米叠层薄膜以及纯VC薄膜.利用XRD和SEM对薄膜结构进行分析,并通过纳米压痕和维氏压痕对薄膜的硬度、模量以及韧性进行了表征.结果表明:双靶交替沉积制备的VC/Ni纳米叠层薄膜界面清晰、薄膜生长比较致密;三种周期的叠层薄膜硬度均为20GPa,与纯VC薄膜相比韧性得到了明显的改善;随着调制周期的增加,发现VC/Ni纳米叠层薄膜的硬度先增大后减小,韧性先降低,后提高,存在一个性能转折的临界周期.
关键词:
磁控溅射交替沉积
,
VC/Ni
,
纳米叠层
,
调制周期
,
韧性
