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溅射工艺对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响

郭继花 , 黄致新 , 崔增丽 , 杨磊 , 邵剑波 , 朱宏生 , 章平

功能材料

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜,研究了溅射工艺对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响.测量结果表明,基片与靶间距为72mm,溅射功率为75W,溅射气压为0.5Pa,薄膜厚度为120nm时,GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顽力为477.6kA/m,克尔角为0.413°.

关键词: 射频磁控溅射 , GdTbFeCo , 磁光性能 , 溅射工艺

钕掺杂对TbFeCo薄膜磁光性能的影响

周世杰 , 张喜燕 , 姜峰 , 齐琳琳 , 刘志农

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2004.04.038

采用射频磁控溅射方法制备了非晶磁光,并在TbFeCo中引入Nd,以提高薄膜的本征克尔角.测试了薄膜的磁光性能,研究了薄膜成分对其磁光性能的影响.结果表明,在TbFeCo薄膜中掺入一定量的Nd,可显著提高薄膜的磁光性能,薄膜的磁光克尔(Kerr)角可达0.47°,矫顽力可达3.4×105A·m-1.但Nd的掺入量过高,反而使薄膜的磁光性能恶化.

关键词: 磁光性能 , 掺杂 , TbFeCo薄膜 , 稀土

掺Ce稀土铁石榴石块状单晶生长及磁光性能研究

黄敏 , 张守业

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2000.01.003

掺Ce稀土铁石榴石单晶是目前最具发展前景的新型法拉第旋转材料.与GdBiIG,YIG等材料相比,具有更大法拉第旋转、小的温度系数和低廉成本等特点.本文采用改进的助熔剂法,成功地生长出块状Ce:YIG单晶,分析晶体结构,测试近红外波段磁光性能.Ce3+掺入铁石榴石十二面体位极大地增强了材料的法拉第旋转角,在λ=0.78μm时Y3Fe5O12晶体中每一个Ce3+替代Y3+,其θF的增加量(dθF/dx)达到0.6×104deg/cm,是同量Bi3+替代晶体θF增加量的2倍.另外,在稀土铁石榴石中掺入Yb3+和Eu3+,由于其存在弱的还原性,能抑制ce4+的形成,增加Ce3+离子的掺入量.

关键词: 晶体生长 , 掺Ce石榴石单晶 , 磁光性能

Co/Pt多层膜的调制结构对磁光性能的影响

李晖云 , 赵辉 , 丁易 , 吴隽 , 张永俐

贵金属 doi:10.3969/j.issn.1004-0676.2000.02.003

研究了Co/Pt多层膜中,Co层厚度,Co、Pt含量比,溅射温度对多层膜磁光性能的影响.研究发现Co层厚度及Co、Pt含量比对Co/Pt多层膜的磁光性能起决定性影响,当tCo<0.4nm,tCo/tPt=1/2时,可获得较好的综合磁光性能;适当提高溅射时基体的温度,可改善多层膜的结晶性并获得较好的调制周期结构,最终改善其磁光性能.

关键词: Co/Pt多层膜 , 调制结构 , 磁光性能

掺Ce稀土铁石榴石单晶的制备及磁光性能

黄敏 , 张守业

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2000.04.012

采用改进的助熔剂法生长块状Ce:YIG单晶,分析了它的晶体结构,测试了在近红外波段的磁光性能. Ce3+掺入铁石榴石十二面体位极大地增强了材料的法拉第旋转,在λ=0.78μm时,Y3Fe5O12晶体中每一个Ce3+替代Y3+,其θF的增加量(dθF/dx)达到0.6×10 4deg/cm,比同量Bi3+替代时晶体θF的增加量高2倍.在稀土铁石榴石中掺入Yb和Eu,由于其有弱的还原性,能抑制Ce4的形成,增加Ce3+离子的替代量.

关键词: 晶体生长 , 掺Ce石榴石单晶 , 磁光性能

EuS纳米晶合成方法及性能研究进展

许宗泽 , 郝先库 , 赵永志 , 张瑞祥 , 马显东 , 潘悦 , 张立

稀土 doi:10.16533/J.CNKI.15-1099/TF.201605020

综述了EuS纳米晶合成方法、磁光性能研究现状,阐述了合成方法对磁光性能影响,并对其在光隔离器、生物成像试剂、磁记录仪和自旋电子上的应用及未来发展前景进行了展望.

关键词: EuS纳米晶 , 合成方法 , 磁光性能

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