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热处理中Si/SiGe/Si界面互扩散

文娇 , 刘畅 , 俞文杰 , 张波 , 薛忠营 , 狄增峰 , 闵嘉华

功能材料与器件学报

利用高分辨率X射线衍射(HRXRD)和拉曼光谱(Raman spectrum)研究了由扩散引起Si/SiGe/Si异质结中Si/SiGe异质界面互混的现象.结果表明:应变弛豫前Si/SiGe异质界面互混程度随热载荷的增加而增强;Si/SiGe异质界面的硼(B)浓度梯度抑制了界面互扩散.总之,Si/SiGe互扩散作用越强诱发Si/SiGe异质界面越粗糙,从而导致器件性能恶化.

关键词: Si/SiGe互扩散 , 热载荷 , 硼浓度梯度

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