李佳
,
李德良
,
莫凌
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.03.025
研究了以硝酸为主成分的酸性蚀刻液.采用静态蚀刻的实验方法,通过测定蚀刻液对印制电路板铜箔的蚀刻速率和侧蚀量,考察了几个独立因素的影响.结合正交实验得出硝酸型酸性蚀刻液的最佳组分及工艺条件为:Cu2+质量浓度为(140±10)g/L,硝酸浓度为(2.5±0.5)mol/L,温度为(50±5)℃.在该条件下,静态蚀刻速率可达到10 μm/min,且侧蚀量小.此外,还考察了抑烟剂对蚀刻速率的影响.
关键词:
硝酸
,
硝酸铜
,
蚀刻液
