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磁控溅射硅钼薄膜的抗氧化性能研究

邵红红 , 徐涛 , 王晓静 , 邓进俊

功能材料

用射频磁控溅射法在单晶Si基体上制备了硅钼薄膜,对薄膜进行真空退火处理以及高温氧化实验,借助SEM和X射线衍射仪（XRD）等仪器对退火前后的薄膜以及高温氧化后的薄膜进行了分析。结果表明沉积态的硅钼薄膜为非晶态,高温真空退火使薄膜由非晶态转变为晶态,致密的复合氧化物是硅钼薄膜具有良好的抗氧化性能的主要原因。

关键词: 磁控溅射 , 硅钼薄膜 , 抗氧化性