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裴志亮 , 谭明晖 , 陈猛 , 孙超 , 黄荣芳 , 闻立时
金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2000.01.017
用磁控反应溅射法制备了ZnO:Al(简称ZAO)薄膜,研究了薄膜方块电阻空间分布的均匀性及微观形貌,并对ZnO:Al薄膜表面各元素的化学状态和深度分布进行了XPS和AES分析,同时也讨论了薄膜的光学电学性能.
关键词: ZnO:Al薄膜 , 电阻空间分布 , 光电性能
裴志亮 , 谭明晖
金属学报
用磁控反应溅射法制备了ZnO:Al薄膜, 研究了薄膜方块电阻空间分布的均匀性及微观形貌, 并对ZnO:Al薄膜表面各元素的化学状态和深度分布进行了XPS和AES分析, 同时也讨论了薄膜的光学电学性能.
关键词: ZnO:Al薄膜 , null