杨海刚
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王聪
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宋桂林
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王天兴
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常方高
功能材料
采用直流反应磁控溅射方法在ITO导电玻璃上沉积了WO_3薄膜,研究了靶基距对其微结构和电致变色性能的影响,利用XRD、SEM和XPS对薄膜的微结构和成分进行了表征.通过可见光透射谱对样品的电致变色性能进行了研究,并且讨论了WO_3薄膜电致变色性能与其微结构、价态变化之间的关系.发现靶基距为7cm的情况下沉积得到的WO_3薄膜呈非晶态,薄膜有更多的孔隙,有利于Li~+的抽取,进而显示出较好的电致变色性能.反应溅射制备的WO_3薄膜中W是W~(6+)价态,颜色为透明状,当发生着色反应时,随着薄膜中Li~+成分增加,薄膜颜色变为蓝色,薄膜中W原子为W~(6+)和W~(5+)的混合价态.认为其电致变色的行为是由于Li~+和e~-在薄膜中的注入和拉出引起的W~(6+)和W~(5+)发生转化所致.
关键词:
WO_3薄膜
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磁控溅射
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靶基距
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电致变色机制
