马海斌
,
孙自杰
冶金分析
doi:10.13228/j.b0yuan.issn1000-7571.009669
为更好的理解困扰电感耦合等离子质谱仪(ICP-MS)分析灵敏度提高的基质干扰问题,利用激光诱导荧光技术,考察了钡离子和钙离子在ICP-MS取样锥后的质量控制传递行为.通过比较分析离子在取样锥孔口及后端的径向分布,探讨了ICP功率、雾化气流速及基质干扰对取样锥后分析离子空间分布的影响.结果表明:取样锥孔口钙离子与钡离子分布类似,但取样锥后扩散状况与其相对原子质量有关,相对原子质量小的元素径向扩散更快,因此仪器检测灵敏度较低;雾化气流速越大,分析离子的传递效率越低,因此更高的进样速率在ICP-MS应用中不一定对应更高的检测灵敏度;分析离子径向分布及数量也受基质组分影响,基质干扰降低了取样锥后中心轴线上的分析离子数量,使其径向分布变得更扁平,通过截取锥的概率更低,最终使得分析离子的信号降低.
关键词:
电感耦合等离子体质谱仪
,
取样锥
,
质量控制传递
,
功率
,
雾化气流速
,
基质干扰
朱晓艳
,
曹国洲
,
黄振华
,
旷亚非
,
朱丽辉
电镀与涂饰
将金属镀镍材料在210 ℃、10%(体积分数)的HCI中退镀15 min,然后用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定退镀液中铅和镉含量.根据退镀量及所测含量,计算出镀层中铅和镉的含量.该方法的铅、镉检出限分别为0.10 mg/kg和0.18 mg/kg,实际样品分析的相对标准偏差分别为3.33%和4.07%,加标平均回收率为94.5%～107%,能满足镀层有害物质检测相关规定的要求.
关键词:
镍镀层
,
铅
,
镉
,
电感耦合等离子体质谱仪
,
检测限
