秦聪祥
,
曾鹏
,
胡社军
,
汝强
,
吴键
电镀与涂饰
doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2006.06.005
利用等离子体辅助电孤沉积技术制备了不同成分的TiAlSiN多元薄膜,并研究了Si含量对薄膜组织结构、显微硬度和耐磨性的影响.XRD物相分析表明:薄膜主要由AlN和TiN组成.随着膜层中Si含量的增加,薄膜的结构由明显的柱状晶转变为致密的玻璃态结构,显微硬度逐渐提高,耐磨性能得到明显改善.
关键词:
TiAlSiN
,
电弧沉积
,
显微硬度
,
耐磨性
张中伟
,
王俊山
,
许正辉
,
李承新
宇航材料工艺
doi:10.3969/j.issn.1007-2330.2007.01.015
为解决MoSi2和SiC线膨胀系数差异,在带有SiC外涂层的C/C复合材料表面采用等离子喷涂、电弧沉积和固渗等工艺制备MoSi2涂层.涂层表面形貌分析发现,等离子喷涂MoSi2涂层多孔不致密,电弧沉积MoSi2涂层易开裂剥落;而固渗MoSi2涂层致密均匀,且界面结合力好.氧化试验也表明,固渗MoSi2涂层性能较好.
关键词:
C/C复合材料
,
MoSi2涂层
,
等离子喷涂
,
电弧沉积
,
固渗
