材料期刊网

1. 首页
2. 检索结果页

原词结果 | 译词结果

热丝辅助MW ECR CVD技术高速沉积高质量氢化非晶硅薄膜

周怀恩 , 陈光华 , 朱秀红 , 阴生毅 , 胡跃辉

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.03.019

氢化非晶硅薄膜具有优异的光电特性,在制备薄膜太阳能电池中有重要的应用.本文采用热丝辅助MWECR CVD技术,通过调整各种工艺参数,制备了高沉积速率(DR＞2.5nm/s)及高光敏性(σph/σD＞105)的氢化非晶硅薄膜.实验表明,在衬底表面温度的分布中,热丝辐射和离子轰击引起的温度对薄膜的光敏性影响较大;在薄膜沉积的最后几分钟适当加大H2稀释率,有利于薄膜光电特性的改善.

关键词: 氢化非晶硅 , 氢稀释率 , 电子回旋共振化学气相沉积 , 光敏性

纳米絮状碳膜的制备及场发射特性

崔雪菡 , 顾广瑞

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2010.01.011

采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)技术,以CH_4和H_2为源气体,硅片为衬底制备了碳膜.利用拉曼光谱仪和扫描电子显微镜成功研究了基板偏压、沉积时间、CH_4浓度等工艺参数的改变对碳膜絮状结构的影响.通过分析碳膜结构和形貌,得出纳米絮状碳膜的最佳工艺参数.通过电流密度-电场(J-E)曲线和Fowler-Nordheim(F-N)曲线,研究了CH_4浓度对纳米絮状碳膜的场发射特性的影响.随着CH_4浓度的增加,碳膜的阚值电场逐渐降低,发射电流密度逐渐增加.

关键词: 电子回旋共振化学气相沉积 , 纳米絮状碳膜 , 场发射特性

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词