王建民
,
汪景奇
,
苏勇
,
王开啸
,
任强
电镀与涂饰
在3 g/LNaOH溶液中加入NaF添加剂作为电解液,研究了电压和添加剂浓度对钛合金板表面氧化膜的颜色、硬度和耐腐蚀性的影响,分析了氧化膜的扫描电镜图和X射线衍射图.结果表明:电压是影响阳极氧化膜性能的主要参数,电压和NaF浓度的变化都能引起氧化膜颜色、硬度、耐腐蚀性以及表面形貌等的改变.
关键词:
钛合金
,
阳极氧化
,
电压
,
氟化钠
,
硬度
,
耐蚀性
,
表面形貌
何明鹏
,
潘庆辉
,
梁智明
,
张小俊
,
刘雁
,
李忠
绝缘材料
对TFT复合材料在不同影响因素(电压、频率、上升沿时间、温度)下进行高频电老化测试,探讨不同影响因素对高频电老化寿命的影响。结果表明:电压与高频电老化寿命成负指数幂关系;随着频率和温度的增加,高频电老化寿命缩短;上升沿时间越短,高频电老化寿命越短。
关键词:
复合材料
,
高频电老化寿命
,
电压
,
频率
,
上升沿时间
,
温度
陈宏
,
郝建民
,
王利捷
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2004.03.007
研究了微弧氧化处理中起始电压U始、终止电压U终对陶瓷层的影响,发现电压是决定微弧氧化陶瓷层生长厚度及表面粗糙度的关键.结果表明:当起始电压U始相等时,终止电压U终(或△U)愈高,陶瓷层厚度愈厚;当终止电压U终相等时,起始电压U始愈高,陶瓷层厚度也愈厚.试样的表面粗糙度随微弧氧化处理终止电压U终的升高而增加,与U始变化的关系不明显.
关键词:
镁合金
,
微弧氧化
,
陶瓷层
,
粗糙度
,
电压
奚兵
电镀与涂饰
介绍了在已有铬层上补镀硬铬的方法,强调了补镀前表面净洁、反电刻蚀(阳极处理)、低电压小电流起镀等工艺的重要性及应注意的问题.实践表明,掌握补镀硬铬的方法,可以提高生产率,降低成本.
关键词:
硬铬
,
补镀
,
表面清洁
,
反电刻蚀
,
电压
,
电流
甄敬然
,
路银川
腐蚀与防护
采用新型双端脉冲电源在大面积镁合金AZ91D上制备微弧氧化膜,研究了电源电压、占空比和电流密度对微弧氧化膜性能的影响。结果表明,微弧氧化膜的厚度随电压、电流密度和占空比的升高而增厚。氧化膜的结构和形貌随电源参数的变化而变化,氧化膜上的孔隙和裂缝会随着电压和占空比的升高而增多。盐雾试验表明随占空比、电流密度和电压增加,氧化膜的耐腐蚀性均减弱。
关键词:
双端脉冲
,
占空比
,
电压
,
电流密度
钟涛生
,
蒋百灵
,
易茂中
材料保护
以ADC12铝合金为基材,采用MAO 240/750微弧氧化设备制备了黑色微弧氧化陶瓷膜,采用胶带粘扯法和金相残余应力撕裂法检测陶瓷膜结合力,研究了温度、占空比和电压等能量参数对陶瓷膜结合力的影响.结果表明,温度越高,陶瓷膜与基体之间的结合情况越好,温度对结合力的影响是通过电介质的电离程度来实现的;结合力随着占空比和电压的升高而增强,电压过高,将产生烧蚀现象;陶瓷膜的结合力与致密层的厚度有关,致密层厚度越大,附着情况越好;满足工程应用的能量参数值分别为温度45℃、占空比18%和电压600 V左右.
关键词:
能量参数
,
微弧氧化
,
结合力
,
温度
,
电压
,
占空比
中国腐蚀与防护学报
采用扫描电镜、电化学阻抗方法,研究了镁合金AZ91D微弧氧化过程中不同电压下获得氧化膜的性能.结果表明,随着氧化电压的升高,可以获得三种不同性能的氧化膜:钝化膜、微火花氧化膜和弧光氧化膜.钝化膜很薄,厚度不足1μm,膜层的阻抗随着氧化电压升高略有增加,仍属于钝化膜性质;微火花放电后期得到的膜层较厚,厚度可达30 μm,表面均匀、结构致密,具有最高的阻抗,可以达到8×107Ω;弧光放电阶段氧化膜最厚,但结构疏松、易碎,阻抗逐渐降低至1×107Ω.结果还指出,硅酸盐体系中微火花放电阶段后期形成的膜层具有最佳的性能;而且膜层的阻抗主要由氧化膜的有效厚度决定,与总厚度关系不大.
关键词:
微弧氧化
,
镁合金
,
电压
,
性能
,
阻抗
马骏
,
文雄伟
,
张华堂
,
李路明
材料保护
在等离子喷涂过程中实时导入超声激励,进行ZrO2热障涂层制备.喷涂过程中保证超声激励频率不变,改变超声激励电压,并与不加超声进行对比,研究了其对涂层结合强度的影响.结果表明,施加适当的超声激励电压对涂层结合强度的提高和稳定可起到促进的作用.
关键词:
电弧超声
,
等离子喷涂
,
热障涂层
,
电压
,
结合强度
周谟银
腐蚀学报(英文)
利用金属在磷化液中腐蚀电流或腐蚀电压的变化研究磷化膜的生长过程和磷化膜完成的时间是一种简单、快速和方便的方法.用这种方法不仅能很容易地分析金属件在各种磷化液中的全部变化行为,而且可以很方便地确定最佳操作时间.
关键词:
电压
,
null
,
null
,
null
中国腐蚀与防护学报
采用扫描电镜、电化学阻抗方法,研究了镁合金AZ91D微弧氧化过程中不同电压下获得氧化膜的性能.结果表明,随着氧化电压的升高,可以获得三种不同性能的氧化膜:钝化膜、微火花氧化膜和弧光氧化膜.钝化膜很薄,厚度不足1μm,膜层的阻抗随着氧化电压升高略有增加,仍属于钝化膜性质;微火花放电后期得到的膜层较厚,厚度可达30 μm,表面均匀、结构致密,具有最高的阻抗,可以达到8×107Ω;弧光放电阶段氧化膜最厚,但结构疏松、易碎,阻抗逐渐降低至1×107Ω.结果还指出,硅酸盐体系中微火花放电阶段后期形成的膜层具有最佳的性能;而且膜层的阻抗主要由氧化膜的有效厚度决定,与总厚度关系不大.
关键词:
微弧氧化
,
镁合金
,
电压
,
性能
,
阻抗