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紫外光截止镀膜玻璃的射频磁控溅射法制备及表征

赵青南 , 倪佳苗 , 张乃芝 , 赵修建 , 姜宏 , 王桂荣

稀有金属材料与工程

制备了摩尔比为l:1的TiO2和CeO2陶瓷靶材.采用射频磁控溅射法在O2和Ar比例为5:95的混合气体中制备了玻璃基TiO2-CeO2薄膜.溅射过程中,工作气压保持在1.8 Pa不变,玻璃基片温度从室温(RT)～220℃之间变化.用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM...

关键词: 射频溅射 , 玻璃基TiOx-CeO2薄膜 , 紫外光截止镀膜玻璃 , 基片温度