莫益栋
,
李庆忠
材料科学与工程学报
以混合磨料氧化铈和氧化硅、pH调节剂羟乙基乙二胺、表面活性剂聚乙烯吡咯烷酮为原料配制抛光液,通过对TFT-LCD玻璃基板进行超声波精细雾化化学机械抛光的正交试验研究,优化了抛光液的成分,并对传统抛光和雾化抛光进行了对比.结果表明:当氧化铈和氧化硅的质量分数分别为4％和10％、pH值为11、表面活性剂的质量分数为1.5％时,材料去除率MRR为215nm/min,表面粗糙度Ra为1.6nm.在相同的试验条件下,传统抛光的去除率和表面粗糙度分别为304nm/min和1.5nm;虽然雾化抛光去除率略低于传统抛光,但抛光液用量仅为传统的1/8.
关键词:
化学机械抛光
,
玻璃基板
,
精细雾化
,
抛光液
,
正交试验
邱西振
,
张方辉
,
丁磊
,
张静
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20122702.0168
研究了粗化玻璃对有机电致发光器件的影响,分别在玻璃基板的平滑面及粗糙面上制作有机电致发光器件.所制备的器件结构为Al(15 nm)/MoO3(60 nm)/NPB(40 nm)/Alq3∶C545T(2％,30 nm)/Alq3 (20nm)/LiF(1 nm)/Al(100 nm).从电流密度-电压-亮度性能及光谱特性等方面对两种器件进行了对比分析.实验结果显示:当蒸镀面为平面时,电流密度及亮度均比粗面型高,其最高亮度达到24 410 cd/m2.不同蒸镀面器件的相对光谱几乎没有变化,但粗面型器件存在黑斑,对其产生的原因进行了探讨.
关键词:
有机电致发光
,
表面粗化
,
玻璃基板
,
出光率
