刘宏
,
郭荣新
,
卞建胜
,
钟浩
,
巩芳
,
李太宗
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2011.12.010
用XRD定量分析法研究化学沉积非晶态Ni-W-P合金激光晶化前后的显微组织特征.通过硬度测试、磨损实验、金相和SEM研究镀层的磨损行为.结果表明:在不同的扫描速率下,均发生Ni3P相的晶化反应；随扫描速率的降低,镀层的晶化程度增加,但均未达到完全晶化；扫描速率为7mm/s时,镀层的晶化程度为73.0％.在发生Ni3P晶化反应的临界扫描速率(10mm/s)下,析出的Ni3P晶粒尺寸大于Ni;扫描速率降低时,两相的尺寸特征向相反的方向演变,但均保持在纳米级范畴.激光晶化前后镀层的硬度和耐磨性受其晶化程度,Ni及Ni3P相的尺寸、数量影响,7mm/s时主要表现为黏着磨损,8mm/s时以磨粒磨损为主.具有适宜的晶化程度、合适的晶粒尺寸,镀层的耐磨性才能得到改善.
关键词:
激光晶化
,
化学沉积
,
晶化程度
,
晶粒尺寸
,
耐磨性
王强
,
顾江
,
花国然
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.12.028
研究了一种非晶硅薄膜的激光低损伤晶化工艺方法，通过在非晶硅薄膜上淀积氮化硅薄膜方法研究激光退火改善非晶硅薄膜的质量。实验结果表明，随着激光退火频率的增加，有无增透膜样品的衍射强度均会出现先下降后上升再下降的现象。增透膜样品的最强衍射峰出现在10~15 Hz 激光退火后，而无增透膜样品的最强衍射峰则出现在20 Hz 激光退火后。SEM分析表明，应用增透膜可以降低非晶硅薄膜的激光退火脉冲频率，并减少非晶硅薄膜激光损伤，可作为一种低损伤的激光晶化工艺。
关键词:
激光晶化
,
增透膜
,
氮化硅
,
非晶硅薄膜
陈盛
,
史伟民
,
金晶
,
秦娟
,
王漪
,
夏义本
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2010.06.009
采用PECVD工艺在普通玻璃衬底上制备非晶硅薄膜,用波长为532nm的倍频Nd:YAG激光对非晶硅薄膜的表层进行了晶化.研究了激光能量密度对非晶硅薄膜表面结晶度以及晶粒大小的影响,并对晶化后的非晶硅表面形貌进行了表征.研究结果表明:该非晶硅薄膜晶化的阈值能量密度为800 mJ/cm2,当激光能量密度大于该值时,晶化效果反而变差.同时经过拉曼光谱表征,经由高斯拟合和数值计算得出薄膜结晶度在45%～60%之间,平均晶粒尺寸在30～50nm.
关键词:
等离子体化学气相沉积
,
激光晶化
,
纳米硅
