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氧化钒薄膜成分及价态的深度刻蚀分析

魏雄邦 , 蒋亚东 , 吴志明 , 廖家轩 , 贾宇明 , 田忠

材料导报

采用直流反应磁控溅射法制备了厚度为500nm的氧化钒薄膜.采用X射线光电子能谱仪对制得的氧化钒薄膜进行了深度刻蚀分析.结果表明,随薄膜刻蚀深度的增加,薄膜内的氧钒比及钒离子价态发生了递变,当薄膜刻蚀深度小于80nm时,这一递变趋势尤为明显.认为这与氧化钒薄膜中各价态钒氧化合物的稳定性和薄膜的制备工艺密切相关.

关键词: 氧化钒薄膜 , 深度刻蚀 , 成分 , 价态