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邹金桥 , 祝勇仁 , 卢建树
表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2007.05.027
综述了涂层超导体缓冲层的作用、可利用的材料及制备方法.着重介绍了几种制备缓冲层的真空及非真空方法,即磁控溅射法、脉冲激光沉积(PLD)、溶胶-凝胶法(sol-gel)、电沉积等.展望了对下一步涂层超导体缓冲层的制备.
关键词: 涂层超导体 , 缓冲层 , 真空沉积 , 非真空沉积