李庆鹏
,
丁国强
,
刘建国
,
赫秀娟
,
严川伟
腐蚀学报（英文）
以正硅酸乙酯(TEOS)为原料在片状铝粉表面包覆SiO2,通过扫描电镜(SEM)和X射线光电子能谱仪(XPS)对包覆的铝粉进行表征,并研究了包覆铝粉对锌铝混合粉的析氢行为的影响.结果表明:SiO2包覆铝粉后可以有效地抑制锌铝混合粉的析氢,包覆工艺最佳水硅比为10:1;SiO2膜与Al粉问存在Si-O-Al的化学键作用.
关键词:
SiO2包覆
,
片状Al粉
,
析氢
,
水硅比
吴霜
,
刘波
,
陈士伟
,
张娟楠
,
刘小林
,
顾牡
,
黄世明
,
倪晨
,
薛超凡
无机材料学报
doi:10.15541/jim20160034
Lu2SiO5∶ Ce3+薄膜具有高光产额、快衰减时间、高密度、高空间分辨率等优点,有望成为X射线探测中的闪烁材料,但制备高质量的薄膜面临挑战.本工作采用溶胶凝-胶法,通过对制备过程中水硅比、烧结程序、胶黏剂和固含量等四个因素的系统研究与分析,结果表明:在空气湿度为85％,溶胶水硅比为6.6条件下,适量添加PEG400,采用优化后最佳固含量,从450℃开始进行烧结程序后退火,可制备出具有透明、平整、无裂痕的高质量Lu2SiO5∶ Ce3+闪烁薄膜,单次旋涂获得的膜厚达到167 nm.实验表明水含量是引起薄膜发白的主要因素;烧结程序决定了薄膜的有机物分解程度及结晶状况;溶胶固含量及胶黏剂含量是调控薄膜厚度的重要方法.本工作为Lu2SiO5∶ Ce3+闪烁薄膜的实际应用奠定了基础.
关键词:
Lu2SiO5∶ Ce3+薄膜
,
水硅比
,
烧结程序
,
胶黏剂
,
固含量
,
发光性能
李庆鹏
,
丁国强
,
刘建国
,
赫秀娟
,
严川伟
腐蚀学报（英文）
以正硅酸乙酯(TEOS)为原料在片状铝粉表面包覆SiO2, 通过扫描电镜(SEM)和X射线光电子能谱仪(XPS)对包覆的铝粉进行表征, 并研究了包覆铝粉对锌铝混合粉的析氢行为的影响.结果表明: SiO2包覆铝粉后可以有效地抑制锌铝混合粉的析氢, 包覆工艺最佳水硅比为10:1; SiO2膜与Al粉间存在Si-O-Al的化学键作用.
关键词:
SiO2包覆
,
Al flake
,
hydrogen evolution
,
n(H2O)/n(SiO2)
