李新领
,
周志男
,
孙维连
,
孙铂
,
王会强
,
安广
表面技术
采用中频孪生靶磁控溅射技术,在不锈钢和铝基体上沉积出ZrN/Zr薄膜,表征了薄膜的厚度、色度及表面形貌,研究了氮气流量对ZrN/Zr薄膜的沉积速率和色度的影响.结果表明:随着氮气流量的增加,薄膜的沉积速率先降低,后升高,氮气流量在2.5×10-10～3.5×10-10 m3/s范围内时对薄膜的沉积速率影响很小;随着氮气流量的变化,薄膜的颜色呈现规律性的变化,在氮气流量2.5×10-10～3.5×10-10 m3/s范围内,可以制备出色彩亮丽的仿金薄膜ZrN,且膜层致密.
关键词:
氮气流量
,
ZrN/Zr薄膜
,
色度
,
沉积速率
,
中频孪生靶
李春明
,
史新伟
,
邱万奇
,
刘正义
功能材料
氮化钛是一种应用较广泛的硬质薄膜,其性能受许多因素的影响,本文只改变氮气流量,固定其它工艺参数,对镀覆的氮化钛薄膜性能进行了分析和研究,得出了获得较好氮化钛薄膜综合性能的氮气流量.
关键词:
离子镀
,
氮化钛
,
氮气流量
,
薄膜
朱丽娟
,
朱圣龙
,
王福会
材料研究学报
采用真空电弧蒸镀技术在高温合金K417上制备Ni+CrAlYSiN纳米复合涂层,用SEM,EDX,TEM等手段表征了复合涂层的形貌、成分和结构,研究了基体负偏压和氮气流量对涂层的形貌、结构、成分和性能的影响.结果表明,涂层主要由γ-Ni,fcc-AlN和fcc-CrN纳米晶组成;基体偏压由-100V增至-300V,熔滴的尺寸和数量均减小,涂层中的晶粒尺寸由50 nm减小为30 nm.随着偏压的增大,涂层中N含量下降,Ni含量增加,Cr和Al的含量先增加后减少；涂层的沉积速率下降.随着氮气流量的增加,涂层中的N含量增加,Ni、Cr和A1含量下降；涂层的沉积速率先增加后减小.偏压为-300 V、氮气流量为225mL·min-1时,涂层的硬度达最大值(9.80 GPa),比NiCrAlYSi涂层的硬度提高约60％,而耐磨性提高约30％.
关键词:
材料失效与保护
,
偏压
,
氮气流量
,
纳米复合涂层
严晟硕
,
李安锁
,
祝超越
,
叶崇晖
,
章陵
,
鲍晓晅
,
鲍明东
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.026
目的 研究Ti-N薄膜颜色和硬度及其结合强度的影响因素.方法 利用封闭磁场非平衡磁控溅射离子镀膜技术,该变溅射偏压、氮气流量等参数,分别在304不锈钢基体和载玻片基体上沉积多彩Ti-N薄膜.用努氏硬度、划痕法和球坑法分别评价Ti-N薄膜的显微硬度和结合强度等性能.结果 当偏压和溅射电流分别为60 V和2 A时,将反应气体氮气流量从3sccm逐渐增加到20sccm,Ti-N薄膜颜色依次发生从"淡黄-金黄-红黄-紫红-金黄"的循环变化趋势.薄膜的硬度随氮气流量的增加在601~700HK之间呈逐步上升的趋势.膜基结合普遍较好.当氮气流量和溅射电流分别为10sccm和2 A时,将负偏压从50 V逐渐增加到120 V,薄膜颜色从淡黄色变成金黄色,膜基结合强度较好.硬度随偏压的增加变化不明显.结论 影响Ti-N薄膜颜色的主要因素为氮气流量,偏压也可以轻微地改变薄膜颜色,但对薄膜性能影响并不明显.
关键词:
磁控溅射
,
Ti-N薄膜
,
氮气流量
,
溅射电流
,
偏压
,
薄膜颜色
王庆喜
,
弥谦
,
惠迎雪
材料导报
利用非平衡磁控溅射离子镀技术研究了不同氮气流量对TiN薄膜结构、摩擦性能、附着力及显微硬度的影响.研究结果表明:N2流量对TiN薄膜的择优取向有很大影响,N2流量较小时,TiN薄膜显示出{111}择优取向生长趋势,在N2流量为15sccm条件下沉积的TiN薄膜的(111)衍射峰强度最强,与之对应的薄膜硬度和膜基结合强度最高,耐磨性能也最好;N2流量的大小对TiN薄膜的沉积速率和摩擦系数影响显著,并随N2流量增加都有较明显的下降趋势.
关键词:
非平衡磁控溅射
,
氮化钛薄膜
,
氮气流量
