杨顺成
膜科学与技术
同一批空分膜组件性能也总有差异,平面式并联方式被广泛采用,为了弄清并联时总气进出口位置和膜组件间的性能差异对其使用效果有无影响,特展开试验研究.试验数据分析表明,不论空分膜组件间的性能有无差异,平面并联时总气进出位置对其产氮效果有影响,在膜组件之外的同一侧时产氮效果最好,浓度高时比在最差位置时的产氮效果提高10％以上,且其变化都会导致各膜组件的产氮浓度和流量的变化,但最终并联结果有的变而有的不变;立体(均布)并联并不比平面并联的好,工程设计上不必考虑这种方式;空分膜组件间的性能差异相对越大,优者被劣者性能抑制越严重,并联的实际结果离理想的越远,尤其是在产氮浓度高时更显著.
关键词:
空分膜组件
,
进出位置
,
并联
,
性能差异
,
氮气
,
气流速
,
效果
,
产氮浓度
刘倩
,
刘莹
,
朱秀榕
,
胡敏
机械工程材料
用直流反应磁控溅射法在Si(100)基底上制备了TiN薄膜,采用X射线衍射仪和原子力显微镜对其结构和形貌进行了表征,利用四探针测试仪测量了TiN薄膜的方块电阻,使用紫外可见分光光度计测定了薄膜反射率;研究了溅射沉积过程中氩气与氮气流量比对TiN薄膜结构及性能的影响.结果表明:在不同氩气与氮气流量比下,所制备薄膜的主要组成相是(200)择优取向的立方相TiN;随着氩气与氮气流量比的增加,薄膜厚度逐渐增大,而表面粗糙度与电阻率先减小后增大;当氩气与氮气流量比为15:1时,薄膜表面粗糙度和电阻率均达到最小值;TiN薄膜的反射率与氩气与氮气流量比的关系不大.
关键词:
TiN薄膜
,
磁控溅射
,
氩气
,
氮气
,
流量
刘彦祥
,
侯新梅
,
周国治
耐火材料
doi:10.3969/j.issn.1001-1935.2013.06.001
为了解TiO2-C体系在不同气氛下的反应过程,以w(TiO2)≥98.0％的锐钛矿型TiO2和w(C) ≥98.8％的活性炭为原料,在热力学计算的基础上,结合室温～1 773 K下的TGA、XRD和SEM分析,研究了m(TiO2)∶m(C) =1∶0.3的TiO2-C体系分别在Ar和N2气氛下热处理过程中的物相变化及显微形貌.结果表明:TiO2的还原反应是分步进行的,随着温度的提高,依次发生反应:TiO2→Ti3O5,TiO2→Ti2O3;在N2条件下,随着温度的升高,TiO2先氮化生成Ti(CON)固溶体,之后转化为TiN.
关键词:
二氧化钛-碳体系
,
氮气
,
还原
,
氮化
肖海峰
,
王敏
,
张春
,
张宇
材料科学与工艺
以Pamstamp有限元软件中22MnB5高强钢板的力学及热物理性能数据库为基础，建立了U形件的热冲压成形有限元分析模型，进行了热冲压成形及淬火全部过程的数值模拟分析，根据模拟结果，采用相同的工艺参数对该U形件热冲压成形过程进行了物理实验验证，结果表明：板料在900℃加热炉内加热保温5 min可达到理想的奥氏体状态，在板料加热过程中通氮气将氧气含量控制在10％以内的防氧化措施可明显降低氧化程度，提高工件表面质量，满足该工件的技术要求。
关键词:
22MnB5
,
热冲压
,
数值模拟
,
氮气
张茜
,
沈新元
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2014.22.002
以乙二胺与氮混合气体等离子体改性壳聚糖膜表面,并用接触角、扫描电镜、扫描探针显微镜、衰减全反射红外、X射线光电子能谱等手段对膜表面形貌和化学结构进行表征.结果表明:50 W、20 Pa、1∶1等体积的混合气体等离子体作用,改善了膜表面亲水性和平整度,导致膜表面轻度交联,增加了N和O元素在膜表面的占有比率并降低了C元素相对含量;由此,等离子体作用提高了壳聚糖膜在弱酸性(pH=5.0～6.0)的混合溶液中对r-氨基丁酸和醋酸钠的分离能力.
关键词:
壳聚糖
,
纳滤膜
,
乙二胺
,
氮气
,
低温等离子体
杨胶溪
,
张恒大
,
李成明
,
陈广超
,
吕反修
,
唐伟忠
,
佟玉梅
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2003.04.021
利用直流等离子体喷射化学气相沉积法制备掺氮的金刚石厚膜.本文研究了在甲烷/氩气/氢气中加入氮气对金刚石膜生长、形貌和质量的影响.反应气体的比例由质量流量计控制,在固定氢气(5000sccm)、氩气(3000sccm)、甲烷(100sccm)流量的情况下改变氮气的流量,即反应气体中氮原子和碳原子的变化比例(N/ C比)范围是从0.06到0.68.同时金刚石膜在固定的腔体压力(4kPa)和衬底温度(800℃)下生长.金刚石膜用扫描电镜(SEM)、拉曼谱和X射线衍射表征.结果表明,氮气在反应气体中的大量加入对直流等离子体喷射制备金刚石膜的形貌、生长速率、晶体取向、成核密度等有非常显著的影响.
关键词:
金刚石膜
,
氮气
,
形貌
,
晶体取向
,
成核密度
聂书红
,
熊守美
,
刘争
稀有金属材料与工程
在密封的钢熔炼炉中研究了不同温度下0.3%SF6/N2气氛中AZ91D镁合金的表面膜成分和形貌,以及表面膜成分与保护效果之间的关系.结果表明:当熔炼温度超过780℃,表面膜中开始检测到铁,随着熔炼温度的增加,表面膜中铁含量逐渐增加.780,810,820 ℃时,膜中铁含量分别为1.65at%,35.14at%和46at%当熔炼温度为810℃,表面膜中开始出现孔洞;当熔炼温度超过824℃,表面膜宏观很不平整,AZ91D镁合金显著蒸发.可能原因是780℃以上的熔炼温度下,FeF3具有很高的蒸气压,FeF3在钢熔炼炉壁上生成、升华,再到温度更低的小坩埚中心区和Mg蒸汽反应,生成MgF2和Fe.
关键词:
镁合金
,
表面膜
,
钢坩埚
,
六氟化硫
,
氮气
吴克跃
,
吴兴举
人工晶体学报
研究了氮气压强对脉冲激光沉积(PLD)法制备ZnO薄膜形貌及光电学性能的影响.结果表明,当氮气压强较低时,ZnO薄膜是由尺寸为50 nm的薄片组成;当氮气压强增加后,ZnO薄膜变成多孔状,并且组成ZnO薄膜的颗粒尺寸逐渐减小.在氮气压强为20 Pa以上时,所制备的ZnO薄膜的光致荧光(PL)光谱是由380 nm的带边发光峰和520 nm的缺陷发光峰组成;当氮气压强较低时(5 Pa和2 Pa),ZnO薄膜的PL光谱只有一个位于400 nm或41O nm处的发光峰.电学方而,2Pa和5 Pa氮气压强下制备的ZnO薄膜的电阻率约为氮气压强为20 Pa和50 Pa下制备样品的104和105倍.研究表明,当氮气压强较低时,Zn离子和O离子具有较大平均自由程和较大平均动能,因此易使N2离子化,可以使部分N离子掺入ZnO晶格中.当氮气压强较高时,Zn离子和O离子平均动能较小,不易使N2离子化,氮难于掺入ZnO晶格中.
关键词:
ZnO
,
氮气
,
脉冲激光沉积
,
光电性能
