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氮化处理对ITO薄膜光电特性影响

杨盟 , 刁训刚 , 刘海鹰 , 武哲 , 舒远杰

功能材料

利用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,分别采用两种方法对薄膜进行氮化处理,即:(1)利用氩气溅射在室温下制备薄膜,随后在氮气和氨气气氛下对薄膜进行热处理;(2)利用氩气/氮气共溅射成膜.利用X射线衍射、霍尔效应、UV-vis-NIR分光光度计等测试手段对薄膜样品进行表征,对比研究...

关键词: 射频磁控溅射 , 氨气和氮气气氛下热处理 , 氮气共溅射 , ITO薄膜