吴敬明
,
贾卫平
,
吴蒙华
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.04.006
目的：进一步提高电沉积制备Ni-TiN纳米复合镀层的性能。方法选用氨基磺酸盐镀液体系,利用超声脉冲方法在3 Cr13基体上电沉积Ni-TiN纳米复合镀层,研究占空比对纳米复合镀层TiN含量、表面形貌、显微硬度、微观结构的影响。结果随着占空比增加,镀层的硬度和纳米TiN含量先增加,后降低,镀层织构衍射强度增加,结晶度提高,衍射峰变窄。在占空比为0.2时,镀层TiN含量和硬度达到最大值,TiN质量分数为3.85%,硬度为580HV0.1,且镀层表面平整、致密。结论在一定的平均电流密度下,采用合适的占空比可以获得表面平整、致密的Ni-TiN纳米复合镀层。纳米TiN的共沉积影响了镍的结晶过程,不同占空比下制备的镀层中纳米TiN含量不同,引起了镀层晶格畸变,织构发生明显变化,性能改变。
关键词:
氨基磺酸盐镀液
,
占空比
,
纳米复合镀层
,
Ni-TiN
王元刚
,
宁智
,
吴蒙华
机械工程材料
doi:10.11973/jxgccl201602012
以添加有纳米 TiN 颗粒的氨基磺酸盐镀液为基础镀液,采用超声-脉冲电沉积的方法在45钢表面制备了纳米 TiN/Ni 复合镀层,分析了电流密度对其微观形貌、显微硬度以及表面TiN 含量及分布的影响。结果表明：当电流密度在2~5 A??dm－2时,复合镀层结构致密且厚度均匀,其厚度随电流密度的增大而增加；随着电流密度的增大,复合镀层表面晶粒先细化后长大,显微硬度先提高后降低,当电流密度为4 A??dm－2时,镀层表面平整,表面和截面硬度均达到最大,分别为677,763 HV；复合镀层表面 TiN 的含量随电流密度的增大先增加后减少,当电流密度为4 A??dm－2时,其含量最高且分散均匀。
关键词:
电流密度
,
纳米 TiN/Ni 复合镀层
,
氨基磺酸盐镀液
,
显微硬度
