赵青南
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李春领
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赵修建
稀有金属材料与工程
用直流反应磁控溅射法制备了玻璃基TiO2薄膜.溅射过程中,Ar气的分压保持在0.85Pa不变,而O2 的分压在0.10Pa～0.65Pa之间变化;镀膜试样在400℃～550℃之间进行热处理.用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和紫外-可见光谱仪研究了薄膜的表面形貌、薄膜沉积速率和光学带隙宽度.结果表明,随着氧气分压从0.10Pa增加到0.65Pa,薄膜沉积速率从4.4nm/min下降到2.2nm/min,光学带隙从3.67eV下降到3.59eV,薄膜表面呈现出均匀的纳米晶粒和纳米孔;550℃热处理有助于较致密薄膜形成纳米晶粒和纳米孔,并降低带隙宽度.
关键词:
玻璃基TiOx薄膜
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纳米晶粒和纳米孔
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氧气分压
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磁控溅射
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热处理
陈甲林
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赵青南
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张君
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2005.05.010
采用射频磁控溅射法在载波片玻璃衬底上制备了锑掺杂二氧化锡(SnO2:Sb)透明导电薄膜.利用霍耳效应实验、紫外可见光光谱仪、n(折射率)k(消光系数)d(薄膜厚度)光谱仪对该导电薄膜的光电性能进行了测试.讨论了氧气分压对样品光电性能的影响,增加氧气分压,薄膜的厚度减小、吸收边和截止波长蓝移,光学带隙增大,并且氧气分压对薄膜电阻率、载流子浓度和霍耳迁移率的影响不是线性的,而是存在一个最佳值.当氧气分压为0.10 Pa时,薄膜的光电性能最佳,此时膜厚为399 nm,可见光平均透过率为70 %,电阻率为2.5×10-3 Ω·cm,载流子浓度为1.2×1021 cm-3,载流子霍耳迁移率为2.04 cm2·V-1·s-1,其光电特性已达到了TFT-LCD透明电极的要求.
关键词:
射频磁控溅射
,
透明导电薄膜
,
光电性能
,
氧气分压
