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钛合金5621S及含钕钛合金5621S氧化膜的应力

李美栓 , 李铁藩

腐蚀学报（英文）

测量了含钕及不含钕两种钛合金5621S于600-800℃在氧气中氧化条件下氧化膜的生长应力和于800℃氧化不同时间后氧化膜的残余应力。通过氧化膜的生长应力、热应力、残余应力大小的比较,表明Ti5621S合金中添加钕能降低氧化膜的生长应力。含钕及不含钕两种钛合金氧化膜的生长应力和热应力同数量级。于冷却过程中若钛合金5621S氧化膜发生显著破裂,由于应力充分释放,其残余应力反较含钕的钛合金5621S氧化膜的低。

关键词: 氧化膜应力 , residual stress , RE Nd , Ti5621S alloy , high temperature oxidation

微晶化对Ni20Cr合金热生长氧化膜应力的影响

张洋 , 宗广霞 , 王福会 , 朱圣龙

腐蚀学报（英文）

利用氧化膜应力原位测量装置对Ni20Cr微晶涂层/合金体系在1000℃空气中氧化过程中发生的弯曲挠度变化进行测量.结果表明,微晶涂层1000℃氧化所形成的Cr_2O_3氧化膜中存在压应力,应力绝对值高于相同厚度的合金表面的热生长氧化膜,其原因在于涂层/Cr_2O_3界面结合好,应力释放较小.降温冷却过程中,通过微晶涂层的蠕变使部分氧化膜热应力得以释放.

关键词: 微晶化 , Ni20Cr合金 , 氧化膜应力

微晶化对Ni20Cr合金热生长氧化膜应力的影响

张洋 , 宗广霞 , 王福会 , 朱圣龙

腐蚀学报（英文）

利用氧化膜应力原位测量装置对Ni20Cr微晶涂层/合金体系在1000 ℃空气中氧化过程中发生的弯曲挠度变化进行测量. 结果表明, 微晶涂层1000 ℃氧化所形成的Cr₂O₃氧化膜中存在压应力, 应力绝对值高于相同厚度的合金表面的热生长氧化膜, 其原因在于涂层/Cr₂O₃界面结合好, 应力释放较小. 降温冷却过程中, 通过微晶涂层的蠕变使部分氧化膜热应力得以释放.

关键词: 微晶化 , Ni20Cr alloy , stress of oxide scales

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