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氟化物激光晶体 Nd3+:LiYF4的坩埚下降法生长

陈红兵 , 范世 , 徐家跃 , 费一汀 , 孙仁英

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2000.05.025

本文报道了氟化物激光晶体Nd3+: LiYF4的坩埚下降法生长工艺.采用经氟化处理的无水氟化物原料，按照LiF: YF3 = 51.5 : 48.5的比例配料，控制炉体温度于920960C，晶体生长速度为0.40.8 mm/h，通过密闭条件下的坩?埚下降法生长出尺寸为25mm80mm的完整单晶.

关键词: 激光晶体 , 氟化钇锂 , 氟化处理 , 晶体生长 , 坩埚下降法