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柱弧离子镀和非平衡磁控溅射镀制备Ti-N-C黑色硬质膜

马胜歌 , 康光宇

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2007.04.013

采用柱弧离子镀和中频孪生靶非平衡磁控溅射镀膜技术制备了Ti-N-C多层复合黑色硬质膜.采用轮廊仪扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、显微硬度计等手段研究了所得膜层的各项性能.结果表明,两种工艺都可以获得颜色较深的黑色硬质膜,柱弧离子镀制备黑色硬质膜的效率高、力学性能更好;中频孪生靶非平衡磁控溅射制备的黑色硬质膜表面光滑、颜色更深.

关键词: 黑色硬质膜 , Ti-N-C , 柱弧离子镀 , 中频溅射 , 非平衡磁控溅射