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硫酸盐三价铬镀铬工艺中杂质的影响及去除

周智鹏 , 胡耀红 , 陈力格 , 赵国鹏 , 甘振杰

电镀与涂饰

研究了硫酸盐三价铬镀铬工艺中铜、锌、铁、镍离子(含量均为50 mg/kg)对镀层外观和厚度、镀液极化的影响,比较了不同除杂方法的除杂效果.结果发现,金属离子杂质对镀液的污染使镀层外观发生变化,使镀层厚度减少、镀液极化增大;金属离子的去除可以采用加入除杂荆和电解相结合的方法.指出六价铬、镀镍光亮剂等杂质对三价铬镀铬工艺影响较大,加入双氧水可以去除六价铬;往循环过滤泵中加入活性炭,可以去除镀镍光亮剂.

关键词: 三价铬镀铬 , 金属离子 , 六价铬 , 镀镍光亮剂 , 污染 , 杂质去除

静电相互作用对荷电超滤过程中带电小分子清除的影响

王来欢 , 邵嘉慧 , 何义亮

膜科学与技术 doi:10.3969/j.issn.1007-8924.2009.02.012

研究了不同荷电量小分子(分子量为1 kD左右)通过表面带同种电荷但荷电量不同的超滤膜(截留分子量为10 kD)时的行为.实验结果表明,荷电超滤膜对带电小分子的截留作用与超滤膜荷电量、小分子带电量以及溶液离子强度密切相关.低离子强度条件下,荷电超滤膜对高荷电小分子的截留率很高,这主要是静电相互作用的结果.随着离子强度的增加,静电屏蔽作用增强,荷电超滤膜对带电小分子的截留作用也相应减小.结果还表明,表观透过率的实验值与基于滞膜模型的理论计算值有较好的吻合.

关键词: 静电相互作用 , 超滤 , 全过滤 , 透过率 , 杂质去除

低能量离子束轰击对碳纳米管中杂质的去除

蔡冬清 , 吴正岩 , 吴林 , 吴跃进 , 朱剑豪 , 余增亮

应用化学 doi:10.3724/SP.J.1095.2010.90675

采用低能量离子束对碳纳米管进行轰击. 扫描电子显微镜测试表明,离子束轰击可以方便地去除碳纳米管中的杂质,拉曼光谱结果显示离子束轰击没有对碳纳米管造成明显损伤. 以尿素作为杂质添加到碳纳米管中,经离子束轰击后发现尿素消失,说明离子束对杂质的去除机制为其溅射效应.

关键词: 离子束轰击 , 杂质去除 , 碳纳米管

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