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浅谈网印重氮感光版的制备

张莉华

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2001.12.025

关键词: 重氮感光胶 , 涂胶 , 曝光 , 显影

PCB激光投影成像扫描技术分析

林清华 , 李文静 , 周金运

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2007.03.015

通过对印制电路板激光投影成像技术使用的步进重复扫描和六边形无接缝扫描方法进行比较,揭示了六边形无接缝扫描技术的优越性能,对六边形无接缝扫描技术的均匀曝光过程及其实现的原理进行了阐述,并对影响扫描成像的曝光量和曝光速度等因素进行了分析.

关键词: 激光技术 , 激光投影成像 , 六边形无接缝扫描 , 曝光 , 印制电路板

HTM技术中细微图形成形效果的衍射理论分析与实验结果

郭建 , 金基用 , 林承武 , 明星 , 周伟峰 , 李斗熙

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2008.03.014

针对使用半色调掩膜技术的TFT LCD玻璃基板曝光过程中的衍射和干涉现象进行了分析.文中给出了衍射和干涉现象的理论模型,并且对这两种现象在HTM技术中所起的作用进行了解释,尤其针对不同的狭缝宽度和狭缝间距的结构进行了分析.给出了扫描电镜的图片做为进一步的说明.

关键词: 半色调掩膜 , 灰色调掩膜 , 薄膜晶体管液晶显示器 , 曝光 , 衍射

新型光刻技术的现状与进展

杨向荣 , 张明 , 王晓临 , 曹万强

材料导报

大尺寸、细线宽、高精度、高效率、低成本成为IC产品发展的趋势,随着集成度的提高,芯片制造中最关键的制造工艺--光刻技术也面临着愈来愈多的难题.新兴的193 nm浸入式技术、157 nm极短紫外光刻(Euv)、电子束投影光刻(EPL)、纳米压印光刻等技术将是解决这些问题的关键.介绍了193nm浸入式技术、157nm光刻技术、电子束投影(EPL)光刻技术以及纳米压印光刻技术.指出纳米压印光刻技术具有生产效率高、成本低、工艺过程简单等优点,能实现分辨率达5 nm以下的水平,是最具发展前途的下一代光刻技术之一.

关键词: 光刻 , 光源 , 曝光