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α-Si3N4晶须的制备与分析

曹阳 , 齐龙浩 , 潘伟

硅酸盐通报 doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2003.05.021

采用高频等离子体气相反应法制备的无定型氮化硅超细粉末为原料.通过在1450℃氮气气氛下,2h的热处理,使无定型氮化硅转为α相氮化硅,并生长出α-Si3N4晶须.试验分析证明所得到的α-Si3N4晶须直径为50～200nm,无明显缺陷,其晶须生长方向为〈0110〉.

关键词: 等离子体 , 气相反应 , 无定型氮化硅 , 晶须 , α-Si3N4