陈瀚
,
邓宏
材料导报
采用Sol-gel法使用旋转涂覆技术在Si(100)基片上生长了ZnO:Cd薄膜.XRD结果表明:ZnO:Cd薄膜具有与ZnO一样的六角纤锌矿结构,随热处理温度的升高,(002)衍射峰强度逐增,FWHM减小,并沿c轴择优取向生长;透射光谱实验表明:以石英为基底,适度掺镉可降低薄膜的禁带宽度Eg,特别是在800℃、8%Cd条件下,Eg=2.80eV,与纯ZnO的禁带宽度3.30eV相比,明显降低了光学禁带;光致发光谱(PL)实验表明:在吸收边附近均有较强的紫外发射峰,且随热处理温度升高呈规律的变化;电阻率测定表明:掺镉使薄膜导电性增强.
关键词:
ZnO:Cd薄膜
,
光致发光
,
Sol-gel法
,
旋涂
张利静
,
方华靖
,
严清峰
,
沈光球
,
王晓青
,
沈德忠
人工晶体学报
本文以ZnO为种子层采用溶胶-凝胶法制备了Li、Mg掺杂的氧化锌薄膜.利用XRD、SEM、PL等手段对薄膜的结构、表面形貌和发光性能进行了表征,研究了不同掺杂情况、种子层、旋涂次数对Li、Mg掺杂的ZnO薄膜性能的影响.结果表明预铺种子层、旋涂8次、在580℃下退火的条件下制得的薄膜性能最好,通过Li、Mg共掺杂使得ZnO薄膜的光致发光性能增强近5倍,近带边发射峰发生蓝移,禁带宽度变大.
关键词:
氧化锌薄膜
,
溶胶-凝胶法
,
种子层
,
旋涂
,
光致发光
段中夏
,
赵全亮
,
刘红梅
,
曹茂盛
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.03.012
采用溶胶-凝胶法,研究了两种在Au/Cr/SiO2/Si基底上沉积PZT(Pb(Zr0.52Ti0.48)O3)厚膜的方法.把与PZT澄清溶胶成分相同的PZT纳米粉混入澄清PZT溶胶,然后超声混合形成PZT浆料,PZT纳米粉的粒径为50～100nm.XRD分析表明两种方法得到的PZT厚膜都获得了单相钙钛矿结构.SEM结果显示两种厚膜厚度大约4μm,第一种旋涂方法制得的PZT厚膜表面粗糙,第二种旋涂方法制得的厚膜表面致密,无裂纹.在1 kHz的测试频率下,第一种和第二种厚膜的矫顽场分别为30 kV/cm和50 kV/cm,饱和极化分别为45 μC/cm2和54 μC/cm2,剩余极化分别为25μC/cm2 and 30μC/cm2.第二种厚膜有较高的直流耐压性能,在300 kV/cm的电场下,仍然保持较好的铁电性能.因而,第二种旋涂方法能够改善PZT厚膜的表面形貌和铁电性能.
关键词:
PZT
,
厚膜
,
溶胶-凝胶
,
旋涂
刘艳清
,
吴钰涵
,
张静
,
张永军
复合材料学报
为了研究铁电相BiFeO3对复合薄膜磁性能的影响,在LaNiO3 (LNO)缓冲层的Si(100)衬底上旋涂制备了含有0、6、9、10层等不同厚度BiFeO3的层状CoFe2O4-BiFeO3 (CFO-BFO)多铁复合薄膜.采用XRD、SEM以及TEM对其结构和形貌进行了表征,采用振动样品磁强计测量磁性,研究了不同厚度BFO对复合薄膜磁性的影响.结果表明:CFO和BFO在异质结构薄膜中共存.缓冲层LNO和铁磁相CFO薄膜具有精细微观结构及明显界面.铁电相BFO的厚度对CFO-BFO复合薄膜的磁性能产生了很大影响.在含有不同层数铁电相BFO的复合薄膜中,含有9层BFO复合薄膜的饱和磁化强度最大,达到了230 emu·cm-3,相比无铁电相BFO的薄膜,饱和磁化强度提高了18.6％.初步讨论认为:随着铁电相BFO厚度的增加,CFO与BFO之间的应力传导引起了复合薄膜饱和磁化强度的提高.
关键词:
层状多铁复合薄膜
,
旋涂
,
BFO厚度
,
磁性
,
高分辨透射电子像
,
应力
彭寿
,
操芳芳
,
金良茂
,
汤永康
,
王东
,
王魏巍
,
单传丽
,
倪嘉
材料热处理学报
doi:10.13289/j.issn.1009-6264.2016-X277
采用简单高效的一步多元醇法以FeCl3.6H2O为成核控制剂,在低温、静置的条件下成功合成了产量高、形貌尺寸均匀、银线平均长度80～110 μm、平均直径为40 ～ 80 nm,长径比大于1000的高长径比Ag纳米线.将制得银纳米线通过无水乙醇分散,得到一系列质量体积浓度的银线分散液,利用旋涂装置在PET上制备成膜,得到薄膜方阻仅6Ω/sq、可见光透过率80％左右性能良好的银纳米线透明导电薄膜,并探讨了旋涂层数、旋涂速度对各质量体积浓度薄膜性能的影响.
关键词:
银纳米线
,
透明导电膜
,
高长径比
,
方块电阻
,
旋涂
殷少飞
,
郭丽玲
,
邹龙
,
胡明杰
,
史昆玉
,
刘韩星
功能材料
介绍了有机/无机类钙钛矿(C12H25NH3)2PbI4的晶体和薄膜的制备,并采用了XRD、SEM、AFM和PL表征材料的结构、形貌及光学特性等.XRD实验表明制备的(C12 H25NH3)2PbI4晶体结晶度高.探索旋涂法制备工艺参数对薄膜结构的影响,在薄膜XRD中几乎只能观察到(0021)晶面的衍射峰,表明有机/无机类钙钛矿层沿平行与基片方向择优生长,SEM和AFM表明薄膜致密性较好,表面粗糙度较小.
关键词:
层状类钙钛矿结构
,
薄膜
,
旋涂
丁士进
,
王鹏飞
,
张剑云
,
张卫
,
王季陶
,
张冶文
,
夏钟福
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2001.02.008
以Teflon AF 1600为原料,用旋涂法制备了非晶含氟聚合物(AF)薄膜通过扫描电镜(SEM)、傅立叶转换红外(FTIR)光谱和X射线光电子(XPS)光谱等手段对热退火前后的薄膜进行了表征.所得薄膜具有无针孔,较光滑和平整的表面,300℃退火后薄膜表面的均匀性进一步改善.AF薄膜在300℃以下具有良好的热稳定性,在400℃退火后CF3吸收峰强度稍有降低.在400 ℃退火后,其所含的CF3键合构型显著降低,CF2、CF等其它构型没有明显的变化,由于CF3基剖的分解有少量无定型碳生成
关键词:
旋涂
,
AF薄膜
,
热稳定性
