顾晓文
,
张先如
,
徐政
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2007.02.023
以高岭石/DMSO插层复合物作为前驱体,在微波辐射下成功制备了高岭石/N-氧化吡啶插层复合物,采用X-射线衍射、FT-IR光谱等技术对产物进行表征.实验结果表明:在高岭石/N-氧化吡啶插层复合物中,高岭石的层间距扩张到1.251nm,插层率达到了72.2%.在此基础上,进一步分析N-氧化吡啶插层高岭石的作用机理,即N-氧化吡啶分子中的N-O基团与高岭石的内表面羟基形成了氢键,N-氧化吡啶分子以单分子层形式近似垂直排列于高岭石层间.
关键词:
高岭石
,
N-氧化吡啶
,
插层机理
阎琳琳
,
徐政
,
张存满
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2005.04.023
通过采用吸潮法制备出了插层率约为90%的高岭石/醋酸钾插层复合物.利用x射线衍射和红外光谱研究了插层前后高岭石结构的变化.在本文实验结果和国内外已有的研究结果基础上,综合考察了各种可能性,提出醋酸根离子首先与水分子配位结合,配位体中的水分子再与内表面铝羟基以氢键形式相结合.结合理论结构计算,推断水合K+离子处于醋酸根中的甲基和硅氧面的复三方孔之间,并且水合K+离子部分处于复三方孔中,进而提出了全新的醋酸钾插层高岭石的作用机理模型,结果表明该模型的理论计算值与实验结果具有很好的一致性.
关键词:
高岭石
,
醋酸钾
,
插层机理
