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电沉积溶液中硼酸分析方法综述和研究进展

李超群 , 田宗平 , 曹健 , 周永兴 , 邓圣为 , 陈铮

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2016.03.006

目前测定硼酸方法的文献多而分散,但很少有报道这些方法的综述性专论.论述了硼酸在电镀工业中的作用及电沉积溶液中硼酸测量的重要性,对硼酸的测定方法、抑制金属离子水解技术作了比较全面的总结和整理,重点介绍了电镀溶液中硼酸的分析方法,并进行了归纳分类.结合实际提出了今后的发展前景.

关键词: 硼酸 , 电沉积 , 水解离子 , 掩蔽法 , 电位分析法

游离酸测定过程中金属离子水解干扰和配位剂掩蔽的探讨

李超群 , 田宗平 , 曹健 , 周永兴 , 邓圣为 , 陈铮

冶金分析 doi:10.13228/j.boyuan.issn1000-7571.009745

运用酸碱质子理论详细论述了金属离子水解的实质,在水溶液中水合金属离子本质上就是酸.在金属离子存在下游离酸的测量,可以通过混合酸滴定理论进行处理,并分析了金属离子水解的影响.应用配位掩蔽法研究了抑制水解金属离子干扰的方法,配位剂加入改变了溶液中金属离子的存在状态.为了保证游离酸度测量结果的正确度,配位反应既不能产生也不能消耗H+,讨论了溶液酸效应和金属离子水解效应对条件稳定常数的影响,总结了游离酸测量过程中配位剂的选择要求.

关键词: 游离酸测量 , 配位剂 , 水解金属离子 , 掩蔽法

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