熊伟
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储向峰
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白林山
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董永平
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叶明富
表面技术
概述了化学机械抛光作用机制,着重阐述了3种常见衬底(α-Al2O3,SiC,Si)的化学机械抛光现状,主要从抛光工艺参数和抛光液组成(不同磨料、磨料粒径、氧化剂、络合剂、pH值等)对晶片抛光效果的影响展开研究,并指出了目前化学机械抛光存在的问题,进一步展望了LED衬底化学机械抛光的发展前景.
关键词:
衬底材料
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化学机械抛光
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抛光工艺
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抛光浆料
郑国琴
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沈志刚
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曾晓飞
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陈建峰
硅酸盐通报
在化学机械抛光过程中,抛光液的流变性能起到至关重要的作用.本文利用Haake流变仪研究了水基纳米CeO2悬浮液在不同pH值、CeO2颗粒浓度、温度、中性电解质浓度下的流变性能.研究结果表明,随着zeta电位减小,悬浮液表观粘度增大,体系逐渐转变为剪切变稀的非牛顿流体.悬浮液中CeO2颗粒浓度低于17.4wt％时,颗粒浓度对体系的流变性能影响较弱,体系为牛顿流体,但是继续增大颗粒浓度,悬浮体表观粘度明显增大,出现剪稀现象.温度对悬浮液流变性能影响较为复杂,当温度小于35℃时,随着温度的升高体系表观粘度变小,温度大于35℃时,温度的升高反而使体系表观粘度增高.中性电解质的加入使得悬浮体的zeta电位降低,从而使体系表现出较高的表观粘度.
关键词:
纳米CeO2
,
流变性
,
抛光浆料
