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无添加剂体系中电解铜箔的多步粗化

胡旭日 , 王海振 , 徐好强 , 徐策 , 王维河

电镀与涂饰

采用无添加剂的铜盐–硫酸体系对电解铜箔进行多步粗化,一方面能保证铜箔具有较高的抗剥强度,另一方面能防止表面铜颗粒脱落。研究了电流密度、电解液铜含量、硫酸含量、温度等因素对粗化效果的影响。结果表明,电流密度是粗化的主要影响因素,通过调节电流密度可同时达到粗化和固化效果。最佳粗化工艺条件为:Cu2+30 g/L,H2SO4110~150 g/L,温度35°C,前3步粗化电流密度270 A/dm2,后8步粗化电流密度40 A/dm2,总时间17~30 s。采用该工艺处理电解铜箔,所得粗化层表面无铜粉脱落,粗糙度大于8.40μm,抗剥强度大于2.10 N/mm,满足厂家要求。

关键词: 电解铜箔 , 粗化 , 电流密度 , 抗剥强度

新型内层铜箔棕化处理液的研制

符飞燕 , 夏海清 , 黄革 , 杨盟辉 , 王龙彪 , 黄锐

电镀与涂饰

开发了一种新型内层铜箔CS-2203棕化液,其组成(以体积分数表示)和工艺条件为:质量分数为50%的硫酸3.5% ~4.5%,质量分数为35%的双氧水4.5% ~ 5.5%,CS-2203棕化剂2.2% ~ 3.2%,时间50 ~ 60 s,温度30~40℃.CS-2203棕化剂的组成为:98%(质量分数)硫酸90~ 120g/L,30%(质量分数)双氧水10~ 25 g/L,改性苯并三唑50~100g/L,聚酸酰胺80~100g/L,稳定剂B 0.5~1.0 g/L,邻苯二甲酸二甲酯微量.对CS-2203棕化膜的热应力性能、抗剥强度、表面形貌等进行表征.结果表明,新型CS-2203棕化液处理所得棕化膜可显著促进铜表面与粘结片之间的结合,抗热冲击性能良好,抗剥离强度高,综合性能满足客户的要求.该工艺流程简单,适用性广,成本低.

关键词: 印制线路板 , 内层铜箔 , 棕化 , 热应力 , 抗剥强度

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