胡旭日
,
王海振
,
徐好强
,
徐策
,
王维河
电镀与涂饰
采用无添加剂的铜盐–硫酸体系对电解铜箔进行多步粗化,一方面能保证铜箔具有较高的抗剥强度,另一方面能防止表面铜颗粒脱落。研究了电流密度、电解液铜含量、硫酸含量、温度等因素对粗化效果的影响。结果表明,电流密度是粗化的主要影响因素,通过调节电流密度可同时达到粗化和固化效果。最佳粗化工艺条件为:Cu2+30 g/L,H2SO4110~150 g/L,温度35°C,前3步粗化电流密度270 A/dm2,后8步粗化电流密度40 A/dm2,总时间17~30 s。采用该工艺处理电解铜箔,所得粗化层表面无铜粉脱落,粗糙度大于8.40μm,抗剥强度大于2.10 N/mm,满足厂家要求。
关键词:
电解铜箔
,
粗化
,
电流密度
,
抗剥强度
符飞燕
,
夏海清
,
黄革
,
杨盟辉
,
王龙彪
,
黄锐
电镀与涂饰
开发了一种新型内层铜箔CS-2203棕化液,其组成(以体积分数表示)和工艺条件为:质量分数为50%的硫酸3.5% ~4.5%,质量分数为35%的双氧水4.5% ~ 5.5%,CS-2203棕化剂2.2% ~ 3.2%,时间50 ~ 60 s,温度30~40℃.CS-2203棕化剂的组成为:98%(质量分数)硫酸90~ 120g/L,30%(质量分数)双氧水10~ 25 g/L,改性苯并三唑50~100g/L,聚酸酰胺80~100g/L,稳定剂B 0.5~1.0 g/L,邻苯二甲酸二甲酯微量.对CS-2203棕化膜的热应力性能、抗剥强度、表面形貌等进行表征.结果表明,新型CS-2203棕化液处理所得棕化膜可显著促进铜表面与粘结片之间的结合,抗热冲击性能良好,抗剥离强度高,综合性能满足客户的要求.该工艺流程简单,适用性广,成本低.
关键词:
印制线路板
,
内层铜箔
,
棕化
,
热应力
,
抗剥强度