刘仁
,
顾辉旗
,
安丰磊
,
王春林
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张胜文
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刘晓亚
高分子材料科学与工程
合成了水可分散阳离子型丙烯酸酯光敏聚合物(UPDHES),以其为主体树脂制得了阴极光敏电泳涂料乳液,并以铜箔为阴极进行电泳成膜、闪蒸、曝光、显影成像.研究了电泳过程中电流密度的变化对涂膜的影响,并对电泳涂膜进行了扫描电镜表征;考察了光敏树脂双键含量对其光固化动力学及性能的影响;最后对光成像抗蚀荆的分辨率进行了测试.结果表明,以电泳技术制得的抗蚀膜层均匀致密,固化后对基材具有较强的附着力,固化膜的耐磨性及拉伸强度都随双键含量的增加而得到了提高,该抗蚀成像膜分辨率高,最小线宽达到15μm.
关键词:
电泳
,
涂料
,
紫外光
,
成像
,
抗蚀剂
王慧如
,
杜翠薇
,
李晓刚
,
刘智勇
,
马宏驰
,
王伦滔
腐蚀学报（英文）
doi:10.11903/1002.6495.2015.275
简述了电化学原子力显微镜的原理和成像模式,重点综述了其在合金中的相电化学、钝化、微生物腐蚀、缓蚀剂、涂层领域的应用,涵盖了成像、表面电位测量和力-距离曲线测量等多种功能;分析了其存在的一些局限性并提出了展望.
关键词:
材料失效与保护
,
电化学原子力显微镜
,
腐蚀
,
成像
沈毅强
,
石云
,
潘裕柏
,
冯锡淇
,
吴乐翔
,
寇华敏
,
章志明
,
魏龙
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2014.13389
采用真空烧结固相反应法,分别制备了不添加和添加烧结助剂(正硅酸乙酯TEOS和MgO)的Pr∶LuAG(Pr∶Lu3Al5O12)陶瓷,研究发现添加烧结助剂烧制的Pr∶LuAG陶瓷在可见光区的直线透过率可达～80％,不添加烧结助剂的陶瓷光学透过率降低(可见光区～70％,2 mm厚),但光输出提高了5倍(为1196 pe/MeV),衰减快分量比例可达73％,能量分辨率8.4％.将Pr∶LuAG陶瓷加工成1.9 mm×1.9 mm× l.0 mm的陶瓷阵列组装探测器模块,用4×4陶瓷阵列单元实现了二维散点图成像,所成散点图清晰可辨.经过平台测试,相同耦合条件下本实验制备的Pr∶LuAG陶瓷成像质量优于商用BGO (Bi4Ge3O12)单晶,结果显示Pr∶LuAG陶瓷有望应用于PET (Positron Emission Tomography)级别核医学成像系统.
关键词:
Pr∶LuAG
,
透明陶瓷
,
退火
,
闪烁性能
,
成像
张叶俊
,
王强斌
中国材料进展
doi:10.7502/j.issn.1674-3962.2016.01.03
量子点作为一种发光纳米晶,在过去20年里一直是研究的热点,持续研究的动力在于量子点独特的光学性质,如荧光强度高、稳定性好、发射范围宽、具有尺寸效应等.最近几年,近红外二区量子点因具有较高的组织穿透深度和较低的自发荧光受到了人们的广泛关注,并且作为荧光探针在小动物活体体外和体内成像方面已得到应用.作为一种新型的近红外二区量子点,Ag2S因其低毒、稳定性好、成本低、生物相容性好等优良性质,过去5年在国内外掀起了研究的热潮.从Ag2S量子点的发展史、制备方法、异质结构、生物应用、毒理学研究等方而对国内外研究成果进行了总结,并着重概述了其制备方法.进一步,讨论了其存在的问题以及对今后的研究进行了展望.
关键词:
Ag2S
,
量子点
,
近红外二区
,
成像
霍永恩
,
贾越
,
王力元
影像科学与光化学
纳米压印是最有希望的下一代纳米成像技术之一.基于其机械压印原理,纳米压印技术可以实现的图形分辨率超越了在别的传统技术中由光衍射或粒子束散射造成的局限.本文介绍纳米压印技术的基本原理,回顾了近期纳米压印抗蚀剂的研究进展.对影响抗蚀剂性能的主要因素进行讨论,包括玻璃化转化温度/热稳定性、粘度/平均分子量、抗蚀性能等.分别介绍了热压印和紫外压印的常见抗蚀剂材料,这些抗蚀剂的主要部分包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、有机硅改性的聚(甲基)丙烯酸酯、聚酰胺酯、聚二甲基硅烷、聚乙烯基醚化合物、环氧树脂等,并给出这些抗蚀剂体系的优、缺点.本文还介绍了纳米压印抗蚀剂面临的主要问题,对纳米压印技术的优势和问题作了小结.
关键词:
纳米压印
,
抗蚀剂
,
成像
