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光加热悬浮区熔法制备(Mo_(0.85) Nb_(0.15))Si_2单相单晶体

姜艳 , 朱鸥 , 张澜庭 , 郁金星 , 吴建生

机械工程材料

采用光加热悬浮区熔法制备了(Mo_(0.85) Nb_(0.15))Si_2单晶体,研究了化学成分和生长速度对获得C40结构单晶体的影响.结果表明:采用此法可制备出表面无裂纹的(Mo_(0.85) Nb_(0.15))Si_2单晶体,其尺寸可达φ8 mm×90 mm,晶体的生长面接近(0001)面,生长形态符合布拉维法则、周期键链(PBC)理论和小面生长理论.

关键词: 悬浮区熔 , 单相 , 单晶体 , (Mo_(0.85) , Nb_(0.15))Si_2 , 光加热

光辐射悬浮区熔法Tb2PdSi3单晶生长及磁性能

徐义库 , 刘林 , 张军 ,

材料热处理学报

采用光辐射加热悬浮区熔法以3 mm/h的生长速度成功制备了Tb2PdSi3单晶.通过分析得知,该化合物为同成分熔融化合物,熔点约为1700℃.和其它R2PdSi3型化合物(R为稀土元素)不同,在单晶基体中没有发现TbSi沉淀,分析原因可能是因为晶体中Tb含量略高于化学计量比.采用X射线Laue背散射实验对晶体的晶格结构和高完整性进行了验证,并对定向单晶的a和c方向磁化率-温度曲线进行了测定.

关键词: 悬浮区熔 , 单晶生长 , 稀土化合物 , 磁性能

含有易挥发元素的Eu2PdSi3光辐射悬浮区熔法晶体生长

徐义库 , 王丹丹 , 宋绪丁 , 于金丽 , 肖君霞 , 郝建民 , 刘林 , 张军 , L(O)SER Wolfgang

材料热处理学报

新型磁盘存储材料Eu2PdSi3单晶制备由于Eu的挥发问题一直是一个难点.本文采用光辐射加热悬浮区熔法尝试制备了Eu2PdSi3单晶.采用标准化学成分配比制备给料棒,制备出的Eu2PdSi3晶体为胞状晶,分析是由于熔区成分发生变化,发生成分过冷导致胞状组织;采用给料棒成分调整法成功生长出大块Eu2PdSi3晶体.研究发现,采用3 MPa循环Ar气并不能完全抑制Eu在高温下的挥发,继续增大保护气体的压强配合给料棒成分调整,有利于解决Eu元素的挥发问题.

关键词: 悬浮区熔 , 单晶生长 , 稀土化合物 , 胞状组织

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