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高方圆 , 李光 , 夏原
材料热处理学报
针对磁控溅射阴极靶磁场分布难以进行定量评价的问题,提出以磁场水平分量B:的平行率R,为量化指标,对磁场分布状态进行评价的新方法;采用有限元方法,模拟分析了磁控溅射阴极靶结构参数对磁场分布的影响规律,并利用Rk对结构参数的合理性进行了验证.结果表明,量化指标Rk可以有效地评价磁场分布的优劣,能够为磁场模拟及分析提供基础的科学判据.
关键词: 磁控溅射 , 磁场分布 , 结构参数 , 平行率