周章渝
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杨发顺
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杨健
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王松
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邓朝勇
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傅兴华
材料导报
超导薄膜实现布图布线工艺是制备超导电子元件的必要步骤.报道了两种二硼化镁超导薄膜布图布线的湿法刻蚀技术:一种是先利用双氧水( H2O2)刻蚀前驱体硼薄膜,然后将刻蚀的样品放入钽坩埚中在镁蒸气下高温退火,实现了对超导薄膜二硼化镁(MgB2)布图布线的刻蚀；另一种是选用氢氟酸(HF)和硝酸(HNO3)的混合溶液直接在二硼化镁超导薄膜上进行图形刻蚀.通过上述两种方法刻蚀出的MgB2薄膜图形精确度高,超导转变温度Tc都在38K以上,临界电流Ic约为1×106 A/cm2.
关键词:
MgB2超导薄膜
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布图布线
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湿法刻蚀
