王刚
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刘宏宇
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赵超
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杨柏梁
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黄锡珉
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2000.02.003
利用DSC方法研究了纯铝薄膜中的小丘现象,同时制备了Al双层栅电极Ta/Al、 Cr/Al和Mo/Al薄膜,并在不同温度下进行了退火处理,研究了双层结构中上层金属(Ta、 Cr和Mo)厚度对Al薄膜中小丘的抑制作用.实验结果表明,上层Ta膜厚度在80～90nm左右(在本实验条件下)时,可得到表面无小丘的Ta/Al薄膜栅材料.实验制备的表面无小丘Ta/Al、 Cr/Al和Mo/Al等栅电极材料的电阻率均在7～20μΩ.cm之间,基本满足现今对角线为25～51cm(10～20in)大屏幕、高清晰度TFT LCD要求.
关键词:
Al双层栅电极
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小丘现象
,
应力释放
,
差热分析
