王鹏
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赵青南
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周祥
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赵修建
稀有金属材料与工程
室温下在玻璃基片上用射频磁控溅射法制备了不同厚度的ZnO:Al(AZO)缓冲层,并在该同质缓冲层上溅射生长了AZO薄膜.用XRD测试了薄膜结构,用四探针法测量了薄膜方块电阻,用紫外-可见光谱仪测试了薄膜透过率,用双光束红外分光光度计测试了薄膜在中红外范围内的红外反射率.并比较并分析了引入同质缓冲层前后薄膜结构与性能的变化.结果表明,与没有缓冲层的样品相比较,适当厚度的同质缓冲层能降低AZO薄膜中的残余应力,使薄膜晶粒尺寸变大,降低AZO薄膜的方块电阻,使薄膜的紫外截止边发生蓝移,增加薄膜的红外反射率,并不明显影响薄膜的可见光透过率.
关键词:
同质缓冲层
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ZnO:Al薄膜
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射频磁控溅射法
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方块电阻
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玻璃基片
张旭
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曹宝成
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李娜
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张颖杰
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王育华
功能材料
考察金属托槽表面掺氮TiO2-xNx薄膜的生物摩擦磨损性能。采用射频磁控溅射法在不锈钢金属托槽原材料表面制备掺氮TiO2-xNx薄膜,通过扫描电子显微镜（SEM）和X射线衍射（XRD）技术分析薄膜微观结构,利用UMT-2MT型摩擦磨损试验机考察薄膜的体外生物摩擦磨损性能。结果表明所制备的掺氮TiO2-xNx薄膜为锐钛矿结构,纳米量级,薄膜均匀致密;在干摩擦及人工唾液和Hank’s溶液的润滑条件下,掺氮TiO2-xNx薄膜均表现出良好的抗磨损低摩擦性能。
关键词:
射频磁控溅射法
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掺氮TiO2-xNx薄膜
,
生物摩擦磨损性能
王玉恒
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马瑾
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计峰
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余旭浒
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马洪磊
稀有金属材料与工程
用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出SnO2:Sb薄膜,研究了不同掺杂和退火对薄膜结构的影响.制备薄膜是具有纯氧化锡四方金红石结构的多晶膜薄,晶粒生长的择优取向为(110).室温下光致发光测量首次观测到392 nm附近存在紫外-紫光发射,并对SnO2:Sb的光致发光机制进行了探索性研究.
关键词:
射频磁控溅射法
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SnO2:Sb薄膜
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光致发光
黄维刚
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王燕
功能材料
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了VO2薄膜.采用XRD、AFM和红外光谱仪研究了不同基片温度所得薄膜的结构、光学性能和相变特性.实验结果表明,薄膜的结晶程度随基片温度的增加而增加,并且VO2具有(011)择优取向.基片温度在400℃以上的VO2薄膜均出现较好的相变特性,500℃时的薄膜相变特性最佳.薄膜的红外透过率随着沉积温度的增加而逐渐增加.
关键词:
VO2薄膜
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射频磁控溅射法
,
相变特性
