程蒙
,
谈国强
,
夏傲
,
任慧君
,
王艳
功能材料
利用化学溶液沉积法在亲水性的FTO基板上制备BiFeO3薄膜。利用XRD、FE-SEM、XPS、Agi-lent E4980A精密LCR仪及TF-Analyzer2000等分析手段对BiFeO3薄膜进行表征。结果表明,薄膜为纯相的结晶良好的多晶BiFeO3薄膜,由100～300nm的BiFeO3晶粒紧密的堆积而成,表面均匀平整。薄膜厚度为450nm。Fe的氧化态为Fe3＋,并没有Fe2＋出现。在10kHz时,介电常数和损耗分别为134和0.005。薄膜的剩余极化率为0.58μC/cm2,在0～250kV/cm的测试电场下漏导电流步伐保持在10-6 A/cm2以下。
关键词:
BiFeO3
,
多铁薄膜
,
化学溶液沉积法
,
亲水性
李享成
,
杨光
,
戴能利
,
陈爱平
,
龙华
,
姚凯伦
,
陆培祥
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2008.00897
采用脉冲激光沉积法, 在(100)SrTiO3基底上, 制备了(La0.2Bi0.8FeO3)0.8-(NiFe2O4) 0.2(LBFO-NFO)多铁薄膜, 通过X射线衍射仪和场发射扫描电子显微镜确定了LBFO-NFO多铁薄膜的显微结构, 通过标准铁电测试系统(RT-66A)和振动样品磁强计(VSM)分别测试了LBFO-NFO多铁薄膜的铁电性能和铁磁性能. 研究发现: 多铁薄膜中LBFO和NFO二相均沿(100)方向外延生长, 晶粒尺寸在100～150nm之间; 薄膜具有明显的电滞回线(Ps=7.6μC/cm2)和磁滞回线(Ms=4.12×104A/m), 显示出明显的铁电铁磁共存特性. 通过对薄膜生长条件的控制, 可削除杂质相, 减小LBFO-NFO薄膜的漏电流, 提高铁电及铁磁性能.
关键词:
多铁薄膜
,
epitaxial growth
,
pulse laser deposition
,
leakage current
李享成
,
杨光
,
戴能利
,
陈爱平
,
龙华
,
姚凯伦
,
陆培祥
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2008.05.007
采用脉冲激光沉积法,在(100)SrTiO3基底上,制备了(La0.2Bi0.8FeO3)0.8-(NiFe2O4)0.2(LBFO-NFO)多铁薄膜,通过X射线衍射仪和场发射扫描电子显微镜确定了LBFO-NFO多铁薄膜的显微结构,通过标准铁电测试系统(RT-66A)和振动样品磁强计(VSM)分别测试了LBFO-NFO多铁薄膜的铁电性能和铁磁性能.研究发现:多铁薄膜中LBFO和NFO二相均沿(100)方向外延生长,晶粒尺寸在100-150nm之间;薄膜具有明显的电滞回线(Ps=7.6μC/cm2)和磁滞回线(Ms=4.12×104A/m),显示出明显的铁电铁磁共存特性.通过对薄膜生长条件的控制,可削除杂质相,减小LBFO-NFO薄膜的漏电流,提高铁电及铁磁性能.
关键词:
多铁薄膜
,
外延生长
,
脉冲激光沉积
,
漏电流
李享成
,
陆培祥
,
杨光
,
姚凯伦
,
朱伯铨
兵器材料科学与工程
doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2009.06.002
以SrTiO_3(STO)为基片,以La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3(LSMO)为缓冲层,采用脉冲激光沉积法制备了Bi_(0.8)La_(0.2)FeO_3(BLFO)/LSMO/STO多铁薄膜.通过生长条件控制,得到单相的BLFO薄膜,且沿(100)面生长,晶粒尺寸为40 nm,厚度为223 nm.BLFO/LSMO/STO纳米晶薄膜的最大电极化为25 μC/cm~2,饱和磁化强度为30 kA/m.具有多铁性能.
关键词:
多铁薄膜
,
Bi_(0.8)La_(0.2)FeO_3
,
LSMO
李享成
,
陆培祥
,
杨光
,
姚凯伦
,
朱伯铨
功能材料
研究了Bi0.8La0.2FeO3单相陶瓷的合成,并采用脉冲激光沉积法,在SrTiO3(100)(STO)基底上,以La0.7Sr0.3MnO3(LSMO)为缓冲层,制备了(Bi0.8La0.2FeO3)0.8-(NiFe2O4)0.2(BLFO-NFO)多铁薄膜.通过X射线衍射仪和场发射扫描电子显微镜确定了BLFO-NFO多铁薄膜的显微结构,通过标准铁电测试系统(RT-66A)和振动样品磁强计(VSM)分别测试了BLFO-NFO多铁薄膜的铁电性能和铁磁性能.研究发现: BLFO-NFO多铁薄膜沿(100)方向外延生长,晶粒为70nm,它具有明显的电滞回线和磁滞回线.
关键词:
多铁薄膜
,
外延生长
,
脉冲激光沉积
